[發(fā)明專利]一種臥式面條機的制面方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710149067.5
• 申請日: 2017-03-14
• 公開（公告）號: CN107019011B
• 公開（公告）日: 2019-07-12
• 發(fā)明（設計）人: 王旭寧;周偉
• 申請（專利權(quán)）人: 九陽股份有限公司
• 主分類號: A21C1/06
• 分類號: A21C1/06;A21C1/14;A21C11/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種臥式面條機的制面方法，面條機包括主機、設于主機內(nèi)的電機、連接于主機的攪拌杯、蓋合于攪拌杯上方的攪拌杯蓋、橫向設于攪拌杯內(nèi)的攪拌桿、與攪拌杯連接的擠面筒、橫向設于擠面筒內(nèi)的螺桿、設于擠面筒端部的模頭和控制電路，螺桿與攪拌桿傳動連接，電機驅(qū)動攪拌桿并帶動螺桿轉(zhuǎn)動，擠面筒上設有進面口，制面方法至少包括以下幾個步驟：

和面步驟：電機帶動攪拌桿反向旋轉(zhuǎn)，攪拌桿攪拌面粉和水，將其攪拌混合成面團；

擠壓成型步驟：電機帶動攪拌桿正向旋轉(zhuǎn)，面團經(jīng)攪拌桿帶動由進面口進入擠面筒內(nèi)，螺桿在電機帶動下正向旋轉(zhuǎn)，將進入擠面筒內(nèi)的面團向前推進至模頭，從而擠壓成面條；

其特征在于，在所述擠壓成型步驟中，設有智能反轉(zhuǎn)過程：控制電路根據(jù)檢測的擠面電流I與設定電流I₁做比較后，當I≤I₁-0.2A時，控制電機以帶動攪拌桿反向旋轉(zhuǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制面方法，其特征在于，所述設定電流I₁為擠壓成型步驟開始后時間T內(nèi)最大的電流。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制面方法，其特征在于，所述T≤2min。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制面方法，其特征在于，所述設定電流I₁為控制電路內(nèi)部的設定值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的制面方法，其特征在于，所述控制電路包括MCU主控模塊、電流檢測模塊、電機驅(qū)動模塊、輸入模塊和電源模塊，MCU主控模塊運算處理輸入模塊輸入的數(shù)據(jù)，并根據(jù)電流檢測模塊檢測的電流值向電機驅(qū)動模塊輸出驅(qū)動信號，電機驅(qū)動模塊根據(jù)驅(qū)動信號控制電機旋轉(zhuǎn)，MCU主控模塊、電流檢測模塊、電機驅(qū)動模塊和輸入模塊均與電源模塊電連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制面方法，其特征在于，在所述和面步驟中，用戶通過輸入模塊輸入信號給MCU主控模塊，MCU主控模塊分析處理該信號以識別輸入功能，并輸出驅(qū)動信號給電機驅(qū)動模塊以控制電機帶動攪拌桿反向旋轉(zhuǎn)和面。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制面方法，其特征在于，在所述擠壓成型步驟中，MCU主控模塊輸出驅(qū)動信號給電機驅(qū)動模塊以控制電機帶動螺桿正向旋轉(zhuǎn)擠面，MCU主控模塊通過電流檢測模塊檢測擠面時的擠面電流I，當I≤I₁-0.2A時，MCU主控模塊輸出驅(qū)動信號給電機驅(qū)動模塊以控制電機帶動攪拌桿反向旋轉(zhuǎn)和面，和面時間為T1。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制面方法，其特征在于，當T1≥30s時，MCU主控模塊輸出驅(qū)動信號給電機驅(qū)動模塊以控制電機帶動螺桿正向旋轉(zhuǎn)擠面。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制面方法，其特征在于，所述電流檢測模塊包括采樣電阻，電流檢測模塊通過采樣電阻采集電機負載電流值并轉(zhuǎn)化為電壓信號以傳輸給MCU主控模塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4所述的制面方法，其特征在于，在所述和面步驟和/或擠壓成型步驟中設有主動反轉(zhuǎn)步驟：控制電路控制電機正向旋轉(zhuǎn)至設定時間后控制電機反向旋轉(zhuǎn)。