[發明專利]等離子體處理裝置有效
| 申請號： | 201710148321.X | 申請日： | 2017-03-13 |
| 公開（公告）號： | CN107230608B | 公開（公告）日： | 2019-06-21 |
| 發明（設計）人： | 加茂克尚 | 申請（專利權）人： | 芝浦機械電子裝置株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人： | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川縣橫*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種等離子體處理裝置，其特征在于包括：
筒形電極，具有設有開口部的一端與被封閉的另一端，內部導入工藝氣體，通過施加電壓而使所述工藝氣體等離子體化；
真空容器，具有開口，所述筒形電極在所述真空容器的內部延伸存在且所述另一端經由絕緣構件而安裝于所述開口；
搬送部，將利用所述工藝氣體受到處理的工件搬送至所述筒形電極的開口部之下；
護罩，連接于所述真空容器，且隔著間隙覆蓋在所述真空容器的內部延伸存在的所述筒形電極；以及
間隔件，包含絕緣材料，且設置于所述筒形電極與所述護罩的間隙的一部分中，
所述間隔件為塊形形狀，所述間隔件的與所述筒形電極相向的側面的面積為1cm2～3cm2，所述間隔件的與所述護罩相向的側面的面積為1cm2～3cm2。
2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述間隔件在與所述筒形電極相向的面的位于所述真空容器的所述開口側的角部具有向所述護罩側傾斜的傾斜部。
3.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述間隔件利用包含絕緣材料的螺栓固定于所述護罩。
4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述間隔件設置于所述筒形電極的一端的附近。
5.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述間隔件設置于所述筒形電極的一端的附近、另一端的附近及一端與另一端的中間附近。
6.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，所述筒形電極及所述護罩為方筒狀，所述間隔件分別設置于所述筒形電極及所述護罩的間隙中及所述護罩的相向的部分。
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