[發明專利]一種鍍氧化鋁的高阻隔薄膜及其制造方法在審
| 申請號： | 201710147674.8 | 申請日： | 2017-03-13 |
| 公開（公告）號： | CN108570644A | 公開（公告）日： | 2018-09-25 |
| 發明（設計）人： | 張建國 | 申請（專利權）人： | 佛山市正一包裝材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 528137 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化鋁 高阻隔薄膜 薄膜 氣化 真空泵抽真空 真空室抽真空 真空蒸鍍機 薄膜卷繞 卷筒薄膜 蒸發沉積 擋板 放卷架 冷卻輥 冷卻源 蒸鍍室 基材 卷繞 膜卷 收卷 蒸鍍 置放 冷卻 制造 穿過 室內 移動 開通 優化 | ||
1.一種鍍氧化鋁的高阻隔薄膜及其制造方法，其特征在于：所述鍍氧化鋁的高阻隔薄膜生產工藝流程為：
第一步：基材放卷：將膜卷基材裝在真空蒸鍍機的放卷架上，薄膜穿過冷卻輥卷繞在收卷軸上；
第二步：抽真空：關閉真空室的相關閥門，用真空泵進行抽真空，使蒸鍍室中的真空度達到設定值；
第三步：加熱氧化鋁：將放置在真空蒸鍍機內部的氧化鋁加熱升溫至氧化鋁完全氣化；
第四步：蒸鍍：當真空度達到設定值時，將卷筒薄膜置放于真空室內，進行蒸鍍；
第五步：冷卻：開通冷卻源，啟動薄膜卷繞系統，當薄膜運行速度達到一定數值后，打開擋板，使氣化氧化鋁蒸發沉積在移動的冷卻的薄膜上；
第六步：測厚：使用測厚裝置對得到的氧化鋁高阻隔薄膜進行厚度測量，分離合格部分與非合格部分；
第七步：展平：將已合格的氧化鋁高阻隔薄膜在展平臺上進行展平，消除薄膜擠皺的部分；
第八步：收卷：將已展平的氧化鋁高阻隔薄膜裝在真空蒸鍍機的放卷架上，薄膜穿過冷卻輥卷繞在收卷軸上。
2.根據權利要求1所述的鍍氧化鋁的高阻隔薄膜，其特征在于：所述的氧化鋁的純度為99.9％。
3.根據權利要求1所述的鍍氧化鋁的高阻隔薄膜，其特征在于：所述的真空度的設定值至少為4×10-4mpa。
4.根據權利要求1所述的鍍氧化鋁的高阻隔薄膜，其特征在于：所述的氧化鋁薄層為一種透明氧化鋁層。
5.根據權利要求1所述的鍍氧化鋁的高阻隔薄膜，其特征在于：所述的待鍍氧化鋁具體為一種氧化鋁細絲狀結構。
6.根據權利要求1所述的鍍氧化鋁的高阻隔薄膜，其特征在于：所述的氧化鋁氣化溫度設置為1100-1200℃。
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