[發明專利]一種銅粉添加溶解系統

在審

• 申請號: 201710147644.7
• 申請日: 2017-03-13
• 公開（公告）號: CN106702471A
• 公開（公告）日: 2017-05-24
• 發明（設計）人: 吳志鵬;許昌浩;魏橙橙;任康
• 申請（專利權）人: 廣德東威電鍍設備技術有限公司
• 主分類號: C25D21/14
• 分類號: C25D21/14
• 代理公司: 合肥鼎途知識產權代理事務所(普通合伙)34122
• 代理人: 葉丹

本發明公開了一種銅粉添加溶解系統，包括機架和溶解槽，所述機架上安裝設置有稱量平臺，所述稱量平臺上安裝有上料斗，所述上料斗頂部連接有真空上料機，真空上料機的進口端通過上料管與位于機架下方的銅粉儲存箱連接，所述上料斗底部通過導料機構與溶解槽右端攪拌區的進料口連接，所述溶解槽右端攪拌區靠近進料口處安裝有攪拌驅動裝置，攪拌驅動裝置輸出端與溶解槽內的攪拌葉輪驅動連接，所述溶解槽左端溢流區沿著長度方向分布設置有多個溢流隔板，所述溶解槽右端攪拌區頂部設置有加液口，溶解槽左端底部設置有出液口，本發明結構設計合理，自動化程度高，銅粉稱量管理精準，工作穩定性能高，能夠精準控制電解藥水中銅離子濃度。

技術領域

本發明涉及電鍍銅粉溶解設備領域，具體為一種銅粉添加溶解系統。

背景技術

在全自動垂直連續薄板電鍍生產線，電鍍板是在多級電鍍銅缸中進行電鍍的，為了提升電鍍板板上鍍層的均勻性和致密性，需要著重對電解藥水中的銅離子濃度進行控制。在電鍍板電鍍生產線的連續化作業過程中，由于電鍍銅缸中的電解藥水是循環流動的，且在電鍍過程中會逐漸消耗銅離子并使得其濃度降低，因此，需要對于電鍍銅缸內的銅離子進行適時補充。傳統的銅粉添加方式是在電鍍銅缸主槽中加入，并通過帶有過濾器和循環泵的噴流管路引入至電鍍引入至電鍍銅缸中。這種添加方式工作效率較低，投料不精準，難以控制充分準確地補充消耗的銅離子。中國專利(授權公告號：CN 205368533 U)公開了一種電鍍用氧化銅粉自動添加系統，該系統雖然能夠提高氧化銅粉的添加效率，但設備整體占用空間較大，需要升降機構將銅粉包運到頂部，然后人工將銅粉包內的銅粉加入到儲桶內，不僅增加了設備的整體造價，還需要耗費較多的人工勞動力；另外，該系統采用先運送、后稱重的模式，當銅粉量達標時，系統輸送機構內部還存在大量銅粉殘留，且達標的銅粉一次性全部加入電鍍銅缸，難以根據電解槽內的銅離子濃度，實時調整加入的銅粉量，不利于銅粉的精準輸送管理，整個系統構造復雜，不利于后期的維護管理。

發明內容

本發明的目的在于提供一種結構設計合理，自動化程度高，銅粉稱量管理精準，工作穩定性能高，能夠精準控制電解藥水中銅離子濃度的銅粉添加溶解系統，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種銅粉添加溶解系統，包括機架和溶解槽，所述機架上安裝設置有稱量平臺，所述稱量平臺上安裝有上料斗，所述上料斗頂部連接有真空上料機，真空上料機的進口端通過上料管與位于機架下方的銅粉儲存箱連接，所述上料斗底部通過導料機構與溶解槽右端攪拌區的進料口連接，所述溶解槽右端攪拌區靠近進料口處安裝有攪拌驅動裝置，攪拌驅動裝置輸出端與溶解槽內的攪拌葉輪驅動連接，所述溶解槽左端溢流區沿著長度方向分布設置有多個溢流隔板，所述溶解槽右端攪拌區頂部設置有加液口，溶解槽左端底部設置有出液口。

作為本發明進一步的方案，所述機架上安裝有方便操作真空上料機的站立平臺，所述站立平臺側端安裝連接有扶梯。

作為本發明進一步的方案，所述稱量平臺內安裝設置有稱重傳感器，所述上料斗側壁上安裝設置有振動馬達。

作為本發明進一步的方案，所述驅動絞龍的進口端與上料斗底部連通，驅動絞龍的出口端與溶解槽的進料口連通，所述驅動絞龍的轉動軸端安裝有編碼器，驅動絞龍的轉動軸端通過導料減速機與絞龍馬達輸出端連接。

作為本發明進一步的方案，所述驅動絞龍出口端設置有封板機構，所述封板機構的驅動端與封堵氣缸連接。

作為本發明進一步的方案，所述攪拌驅動裝置包括相互連接的攪拌馬達，攪拌馬達通過輸出軸與攪拌葉輪驅動連接。

作為本發明進一步的方案，所述溢流隔板底部與溶解槽底面設置有溢流間隙，所述溶解槽內還安裝設置有冷卻盤管。