[發明專利]一種清新口氣的口腔護理用品及其制備方法在審
| 申請號: | 201710147341.5 | 申請日: | 2017-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN107028784A | 公開(公告)日: | 2017-08-11 |
| 發明(設計)人: | 陳敏珊;李林;李平;黃丹虹 | 申請(專利權)人: | 廣州薇美姿實業有限公司 |
| 主分類號: | A61K8/365 | 分類號: | A61K8/365;A61K8/34;A61K8/81;A61K8/9789;A61Q11/00;A61K36/33;A61P1/02;A61P31/04;A61K33/30;A61K31/194;A61K31/05 |
| 代理公司: | 佛山市廣盈專利商標事務所(普通合伙)44339 | 代理人: | 陳業勝 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市天*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 清新 口氣 口腔 護理 用品 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及該技術屬于口腔護理技術領域,具體涉及一種清新口氣的口腔護理用品及其制備方法。
背景技術
口氣又稱口臭,指呼吸或張口時散發出異味的一種癥狀。口臭在成年人中相當普遍,流行病學調查顯示口臭的發病率較高。Liu等調查了2000名年齡為15-64歲的中國人,口臭的患病率為27.5%(Xue N L,Shinada K,Xiao C C,et al.Oral malodor-related parameters in the Chinese general population[J].Journal of Clinical Periodontology,2006,33(1):31-6)。在日本有24%的30歲以上成人自訴有口臭癥狀;在美國,92%的牙科醫生遇到過因口臭而求治的病人;將近50%的牙科醫生每周都會遇到6個以上口臭的病人(葉瑋.口臭病因和診斷的新進展[A].第十四屆中國國際口腔器材展覽會暨學術研討會論文集,2010:2)。
口臭分為真性口臭(Genuine Halitosis)、假性口臭(Pseudo Halitosis)和恐臭癥(Halitophobia)。真性口臭是指他人能夠感覺到的來自口腔的明顯異味。真性口臭分為生理性口臭(Physiologic Halitosis)和病理性口臭(Pathologic Halitosis)。生理性口臭產生于口腔腐化過程,沒有會引起口臭的特殊疾病或病理狀況存在。口臭主要來源是舌背的后方。食物因素(大蒜洋蔥等)引起的暫時性口臭也歸于此類。病理性口臭分為口源性口臭和非口源性口臭。口源性口臭由于口腔衛生狀況差或某些口腔疾病而引起的,例如牙周病、未治愈的齲齒、口干癥等引起的口臭。非口源性口臭由鼻腔、咽喉、肺部或上消化系統疾病全身疾病如尿毒癥、肝硬化等造成的口臭。假性口臭指患者本人自我感覺有口腔異味,檢查結果為陰性。此癥狀可通過解釋說明和心理咨詢得到改善者。恐臭癥指經過真性或假性口臭的治療后,患者仍堅持自己有口臭,經檢查沒有任何能引起口臭的因素存在。
引發口臭的病因有口腔內因素、口腔外因素和精神性因素。三種因素中,口腔內因素是主要致病因素。曾有研究表明87%的口臭病人的致病因素來自于口腔(Delanghe G,Ghyselen J,Bollen C,et al.An inventory of patients’response to treatment at a multi-disciplinary breath odor clinic[J].Quintessence Int,1999,30:307-310.)。此外,某些精神疾病和系統性疾病也會引發口臭。
據統計,80%-90%的口臭源于口腔,如齲病、牙周病、舌苔、食物嵌塞、不良修復體、口腔粘膜病等,其中齲齒和牙周病為最常見相關疾病。口腔內含有大量的微生物,其利用殘留在口腔中的氨基酸、蛋白質等食物殘渣分解代謝,產生令人不愉快的氣味——揮發性硫化復合物(Volatile sulfur compounds,VSCs)。硫化物主要成分為硫化氫、甲基硫醇和乙基硫化物(Scully C,el-Maaytah M,Porter SR,et al.Breath odor:etippatheogenesis,assessment and management[J].Eur J Oral Sci,1997,105:287-293)。臨床實驗證明VSCs水平與口臭程度成正相關(NakanoY,Yoshimura M,Koga T.Correlation between oral malodor and periodontal bacteria[J].Microbes Infect,2002,4(6):67)。
目前,大多數研究認為口腔內引發口臭的微生物(主要是革蘭陰性厭氧菌)主要集中在牙齦溝(牙周袋)和舌苔(Tonzetich J,McBride B C.Characterization of volatile sulphur production by pathogenic and non-pathogenic strains of oral Bacteroides[J].Arch Oral Biol,1981,26:963–969)。這與研究報道(劉兵紅.口臭分類及相關病因分析[J].繼續醫學教育,2007,34:72-74)VSCs的口腔來源主要是牙齦溝(牙周袋)及舌背是相一致的。
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