[發(fā)明專利]一種電離裝置及電離方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710147258.8 | 申請日: | 2017-03-13 | 
| 公開(公告)號: | CN106970137B | 公開(公告)日: | 2019-11-26 | 
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 余泉;趙海琛;王曉浩;錢翔;倪凱 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué)深圳研究生院 | 
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62;H01J49/04 | 
| 代理公司: | 44223 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 余敏<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入國 | 
| 地址: | 518055 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電離 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種電離裝置及電離方法,電離裝置包括供氣裝置、噴氣管道、樣品容器和超聲霧化片,所述樣品容器用于放置待電離的液體樣品,所述超聲霧化片置于所述樣品容器中,用于產(chǎn)生振動以使所述液體樣品產(chǎn)生霧化效果,所述供氣裝置的輸出端連接所述噴氣管道的進(jìn)氣端,所述噴氣管道的出氣端對準(zhǔn)所述樣品容器的上方;所述供氣裝置用于為所述噴氣管道供應(yīng)氣體,所述噴氣管道用于對霧化后的液體樣品上噴射超過聲速的氣流。本發(fā)明的電離裝置及方法,可以實(shí)現(xiàn)更為廣泛的液體樣品中的物質(zhì)電離,且制造成本較低。
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及一種電離裝置及電離方法。
【背景技術(shù)】
在質(zhì)譜分析檢測中,液體樣品是最常見的樣品形式。在進(jìn)行分析時,需要將液體樣品中的待測物轉(zhuǎn)化為帶電離子,并將帶電離子送入質(zhì)譜儀進(jìn)行分析。將液體樣品轉(zhuǎn)化為離子的裝置就是離子源。常見的離子源有電噴霧離子源(ESI),萃取電噴霧離子源(EESI),解析電噴霧離子源(DESI)等。
在諸多離子源中,通常需要在樣品溶液中加載高壓電,這就會使部分樣品在加電條件下發(fā)生變性,影響分析結(jié)果。也即現(xiàn)有的離子源中,不適用于那些加電后會發(fā)生變性的液體樣品物質(zhì)。
以上背景技術(shù)內(nèi)容的公開僅用于輔助理解本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思及技術(shù)方案,其并不必然屬于本專利申請的現(xiàn)有技術(shù),在沒有明確的證據(jù)表明上述內(nèi)容在本專利申請的申請日已經(jīng)公開的情況下,上述背景技術(shù)不應(yīng)當(dāng)用于評價本申請的新穎性和創(chuàng)造性。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:彌補(bǔ)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提出一種電離裝置及電離方法,可以實(shí)現(xiàn)更為廣泛的液體樣品中的物質(zhì)電離,且制造成本較低。
本發(fā)明的技術(shù)問題通過以下的技術(shù)方案予以解決:
一種電離裝置,包括供氣裝置、噴氣管道、樣品容器和超聲霧化片,所述樣品容器用于放置待電離的液體樣品,所述超聲霧化片置于所述樣品容器中,用于產(chǎn)生振動以使所述液體樣品產(chǎn)生霧化效果,所述供氣裝置的輸出端連接所述噴氣管道的進(jìn)氣端,所述噴氣管道的出氣端對準(zhǔn)所述樣品容器的上方;所述供氣裝置用于為所述噴氣管道供應(yīng)氣體,所述噴氣管道用于對霧化后的液體樣品上噴射超過聲速的氣流。
優(yōu)選的技術(shù)方案中,
所述超聲霧化片置于所述樣品容器的底部。
所述供氣裝置供應(yīng)的氣體為惰性氣體。
所述惰性氣體為氮?dú)狻?/p>
進(jìn)一步優(yōu)選的技術(shù)方案中,
所述噴氣管道的出氣端的管徑為0.5~3mm。
優(yōu)選的,所述噴氣管道的出氣端的管徑為1~2mm。
本發(fā)明的技術(shù)問題通過以下進(jìn)一步的技術(shù)方案予以解決:
一種電離方法,包括以下步驟:S1,將待電離的液體樣品放置于樣品容器中,通過超聲霧化片產(chǎn)生的振動使所述液體樣品產(chǎn)生霧化效果;S2,對霧化后的液體樣品上噴射超過聲速的氣流。
優(yōu)選的技術(shù)方案中,
步驟S2中,噴射的氣流為惰性氣體氣流。
步驟S2中,噴射的氣流的方向?qū)?zhǔn)質(zhì)譜儀的入口。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)對比的有益效果是:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué)深圳研究生院,未經(jīng)清華大學(xué)深圳研究生院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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