[發(fā)明專利]一種產(chǎn)生色散切倫科夫輻射的裝置以及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710146605.5
• 申請(qǐng)日: 2017-03-13
• 公開（公告）號(hào): CN108572491B
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉維浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
• 主分類號(hào): G02F1/37
• 分類號(hào): G02F1/37
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種產(chǎn)生色散切倫科夫輻射的裝置，其特征在于，包括：

基底；

位于基底表面的介質(zhì)層，所述介質(zhì)層的相對(duì)介電常數(shù)大于所述基底的相對(duì)介電常數(shù)；

帶電粒子發(fā)射器，所述帶電粒子發(fā)射器用于產(chǎn)生預(yù)設(shè)初速度的帶電粒子；

所述基底與所述介質(zhì)層均為非色散介質(zhì)；

當(dāng)所述裝置用于產(chǎn)生色散切倫科夫輻射時(shí)，所述帶電粒子發(fā)射器用于使得帶電粒子平行入射所述介質(zhì)層的表面，使得所述初速度的方向平行于所述介質(zhì)層的表面，且使得所述帶電粒子與所述介質(zhì)層的表面具有小于預(yù)設(shè)高度的間隙；所述帶電粒子激勵(lì)起沿所述介質(zhì)層表面平行傳輸?shù)谋砻骐姶挪ǎ凰霰砻骐姶挪ㄔ谒鼋橘|(zhì)層內(nèi)產(chǎn)生色散切倫科夫輻射。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述基底的相對(duì)介電常數(shù)范圍是2-5，包括端點(diǎn)值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層的相對(duì)介電常數(shù)大于20。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層的厚度范圍是30nm-50nm，包括端點(diǎn)值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述預(yù)設(shè)高度小于1μm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述基底的厚度大于10倍的所述介質(zhì)層厚度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述帶電粒子的出射能量范圍是40KeV-100KeV，包括端點(diǎn)值。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述基底為玻璃基底、或是陶瓷基底。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層為非色散的人工超材料薄膜。

10.一種產(chǎn)生色散切倫科夫輻射的方法，采用如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述方法包括：

使得帶電粒子以預(yù)設(shè)的初速度經(jīng)過表面設(shè)置有介質(zhì)層的基底上方，所述帶電粒子發(fā)射器用于使得帶電粒子平行入射所述介質(zhì)層的表面，使得所述初速度的方向平行于所述介質(zhì)層的表面，且使得所述帶電粒子與所述介質(zhì)層的表面具有小于預(yù)設(shè)高度的間隙；所述帶電粒子激勵(lì)起沿所述介質(zhì)層表面平行傳輸?shù)谋砻骐姶挪ǎ凰霰砻骐姶挪ㄔ谒鼋橘|(zhì)層內(nèi)產(chǎn)生色散切倫科夫輻射；

其中，所述基底與所述介質(zhì)層均為非色散介質(zhì)，所述介質(zhì)層的相對(duì)介電常數(shù)大于所述基底的相對(duì)介電常數(shù)。