[發(fā)明專利]一種蒸鍍源、蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710145014.6
• 申請日: 2017-03-10
• 公開（公告）號: CN106835028B
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 上官榮剛;王欣欣
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種蒸鍍源，其特征在于，包括蒸鍍坩堝，還包括設(shè)置在所述蒸鍍坩堝出口側(cè)的多個蒸鍍噴嘴，多個所述蒸鍍噴嘴至少排列為一排；

所述蒸鍍坩堝內(nèi)部包括有蒸鍍材料空腔，所述蒸鍍坩堝出口側(cè)的側(cè)壁設(shè)置有連通所述蒸鍍材料空腔的貫通腔，所述蒸鍍噴嘴包括噴頭以及與所述噴頭固定連接的活動部，所述噴頭通過所述貫通腔與所述蒸鍍材料空腔相連通，所述活動部設(shè)置于所述貫通腔內(nèi)并可在所述貫通腔內(nèi)轉(zhuǎn)動，以使得所述噴頭在所述活動部的帶動下擺動；

所述活動部為活動軸，所述活動軸一端設(shè)置于所述貫通腔側(cè)壁、另一端固定連接在所述噴頭側(cè)壁上，所述活動軸平行于所述蒸鍍坩堝出口側(cè)所在的平面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍噴嘴的最大擺動角度小于等于90°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，相鄰兩個所述蒸鍍噴嘴的間距設(shè)置為10mm-200mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，多個所述蒸鍍噴嘴至少排列為兩排時，相鄰兩排的所述蒸鍍噴嘴交錯設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，還包括控制器，所述控制器分別與每一個所述蒸鍍噴嘴相連接，分別控制每一個所述蒸鍍噴嘴的活動部在所述貫通腔內(nèi)的轉(zhuǎn)動。

6.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5任一項所述的蒸鍍源。

7.一種蒸鍍方法，應(yīng)用于權(quán)利要求6所述的蒸鍍裝置，其特征在于，包括，

加熱蒸鍍坩堝，使所述蒸鍍坩堝內(nèi)的蒸鍍材料受熱氣化；

控制活動部轉(zhuǎn)動，以使得噴頭在所述活動部的帶動下擺動。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍方法，其特征在于，當所述蒸鍍噴嘴至少排列為兩排時，所述控制活動部轉(zhuǎn)動具體為：

控制同一排的多個所述活動部沿第一方向轉(zhuǎn)動，控制相鄰排的多個所述活動部沿所述第一方向或與所述第一方向相反的第二方向轉(zhuǎn)動。