[發明專利]一種低介電損耗的可敏化光敏玻璃及生產方法

在審

• 申請號: 201710144943.5
• 申請日: 2017-03-13
• 公開（公告）號: CN106746606A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 陳宏偉;張鵬;張繼華
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: C03C3/095
• 分類號: C03C3/095;C03C6/04;C03C4/04
• 代理公司: 電子科技大學專利中心51203
• 代理人: 詹福五

技術領域

本發明涉及一種光敏玻璃生產技術領域，特別是一種具有低介電損耗的可敏化光敏玻璃及生產方法。

背景技術

光敏玻璃是一種特殊的功能材料，經特定波長紫外光照射后，玻璃曝光部分會發生光化學反應，曝光后在特定溫度下熱處理可形成微晶，與初始的非晶態玻璃相比，微晶部分表現出與之截然不同的光學、機械和化學性能；表現為與未經曝光和熱處理部分相比，玻璃經曝光熱處理部分在某些蝕刻溶液中容易被刻蝕掉，與未曝光部分的刻蝕比可達20:1以上，從而可以用非常簡單而有效的方法將玻璃制成我們需要的各種復雜三維圖形，在光學、醫學、生物、電子等領域都有著廣泛的應用前景。

肖特公司公開了一種Foturan光敏玻璃，其配方為SiO₂ 75～85％，Li₂O,7～11％，K₂O和Al₂O₃ 3～6％，Na₂O 1～2％，ZnO＜2％，Sb₂O₃ 0.2～0.4％，Ce₂O₃0.01～0.04％，Ag₂O 0.05～0.15(參見：1.“F.E.Livingston,P.M.Adams,H.Helvajian,Influence of cerium on the pulsed UV nanosecond laser processing of photostructurable glass ceramic materials,Applied Surface Science,”2005,247:526-536；2.“F.E.livingston,P.M.adams,H.helvajian,Examination of the laser-induced variations in the chemical etch rate of a photosensitive glass ceramic,Applied Physics A,”2007,89:97-107)。但是，此類光敏玻璃由于存在堿金屬離子可在玻璃體的網(條)紋中移動產生極化及玻璃中不同結構(相)體自身在高頻下的震動，因此導致玻璃介電常數變大、損耗增加；此類光敏玻璃經測試，在常溫及1-100MHz未敏化區域的介電系數約為6.5，介電損耗約為6.5×10^-3且穩定性較差；因而，此類光敏玻璃難以滿足在電子器件領域中的應用。

發明內容

本發明的目的是針對背景技術存在的缺陷，研究開發一種低介電損耗的可敏化光敏玻璃及生產方法；達到提高未敏化(未曝光及熱處理)部分玻璃體的強度、光化學的穩定性，有效降低未敏化玻璃體在高頻工作時介電損耗、提高工作時的穩定性，以滿足在電子器件領域中應用；以及有效提高敏化后玻璃刻蝕的深寬比，簡化生產流程等目的。