[發(fā)明專利]光學(xué)探測器及其制備方法、指紋識別傳感器、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710144824.X | 申請日: | 2017-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN108573983B | 公開(公告)日: | 2021-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫建明;寧策;張文林 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/144 | 分類號: | H01L27/144;H01L21/82;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 探測器 及其 制備 方法 指紋識別 傳感器 顯示裝置 | ||
1.一種光學(xué)探測器,其特征在于,包括:依次層疊設(shè)置的第一電極、光電轉(zhuǎn)換層、第二電極、第一絕緣層和第三電極的層疊結(jié)構(gòu);所述光學(xué)探測器還包括:有源層、柵絕緣層和柵極;
所述有源層與所述第一電極和所述第二電極的其中一個(gè)連接,所述有源層還與第三電極連接;所述第一電極、所述光電轉(zhuǎn)換層和所述第二電極形成光電轉(zhuǎn)換單元;與所述有源層連接的所述第一電極或所述第二電極、所述第三電極分別作為開關(guān)管的源極和漏極;
所述柵絕緣層設(shè)置在所述有源層上;
所述柵極設(shè)置在所述柵絕緣層上;
所述有源層與所述第一電極和所述第三電極電連接;
所述光學(xué)探測器還包括:
第二絕緣層,設(shè)置在所述有源層和所述光電轉(zhuǎn)換層、所述第二電極之間;所述第二絕緣層設(shè)置在所述光電轉(zhuǎn)換層的側(cè)壁和所述第二電極的側(cè)壁上;所述有源層形成在所述第一電極的上表面邊緣區(qū)域、所述第二絕緣層和所述第三電極上;
或者,所述有源層與所述第二電極和所述第三電極電連接,所述有源層形成在所述第二電極的側(cè)壁、所述第一絕緣層的側(cè)壁和所述第三電極上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)探測器,其特征在于,在所述層疊結(jié)構(gòu)的相對兩側(cè)均設(shè)置有所述有源層、所述柵絕緣層和所述柵極。
3.一種光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1,在襯底上制備依次層疊設(shè)置的第一電極、光電轉(zhuǎn)換層、第二電極、第一絕緣層和第三電極;
S2,制備有源層,所述有源層與所述第一電極和所述第三電極電連接且與所述光電轉(zhuǎn)換層和所述第二電極絕緣設(shè)置;所述第一電極、所述光電轉(zhuǎn)換層和所述第二電極形成光電轉(zhuǎn)換單元;所述第一電極和所述第三電極分別形成開關(guān)管的源極和漏極;
S3,在所述有源層上制備柵絕緣層;
S4,在所述柵絕緣層上制備柵極。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,步驟S2包括:
在所述光電轉(zhuǎn)換層的側(cè)壁和所述第二電極的側(cè)壁上形成第二絕緣層;
在所述第一電極的上表面邊緣區(qū)域、所述第二絕緣層和所述第三電極上形成所述有源層。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,所述步驟S1包括:
在所述襯底上形成第三電極材料層、第一絕緣層材料層、第二電極材料層、光電轉(zhuǎn)換材料層和第一電極材料層,采用一次構(gòu)圖工藝形成所述第三電極、第一絕緣層、第二電極、光電轉(zhuǎn)換層和第一電極。
6.一種光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1,在襯底上制備依次層疊設(shè)置的第一電極、光電轉(zhuǎn)換層、第二電極、第一絕緣層和第三電極;
S2,制備有源層,所述有源層與所述第二電極和所述第三電極電連接且與所述光電轉(zhuǎn)換層和所述第一電極絕緣設(shè)置;所述第一電極、所述光電轉(zhuǎn)換層和所述第二電極形成光電轉(zhuǎn)換單元;所述第二電極和所述第三電極分別形成開關(guān)管的源極和漏極;
S3,在所述有源層上制備柵絕緣層;
S4,在所述柵絕緣層上制備柵極。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,所述步驟S2包括:
在所述第二電極的側(cè)壁、所述第一絕緣層的側(cè)壁和所述第三電極上形成所述有源層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光學(xué)探測器的制備方法,其特征在于,所述步驟S1包括:
在所述襯底上形成第三電極材料層、第一絕緣層材料層、第二電極材料層、光電轉(zhuǎn)換材料層和第一電極材料層,采用一次構(gòu)圖工藝形成所述第三電極、第一絕緣層、第二電極、光電轉(zhuǎn)換層和第一電極。
9.一種指紋識別傳感器,其特征在于,包括權(quán)利要求1-2任意一項(xiàng)所述的光學(xué)探測器。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求9所述的指紋識別傳感器。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





