[發明專利]等離子穩定化方法以及使用所述方法的沉積方法

有效

• 申請號: 201710144112.8
• 申請日: 2017-03-10
• 公開（公告）號: CN107177833B
• 公開（公告）日: 2019-09-17
• 發明（設計）人: 姜東錫;張僥徹
• 申請（專利權）人: ASM知識產權私人控股有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/513
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種等離子穩定化方法，其包括以下步驟：

(a)供應源氣體；

(b)供應沖洗氣體；

(c)供應反應性氣體；以及

(d)供應等離子，

其中在步驟(a)到步驟(d)期間，所述沖洗氣體和所述反應性氣體連續地供應到反應器中，且在所述反應器中不存在襯底的狀態中執行所述等離子穩定化方法。

2.根據權利要求1所述的等離子穩定化方法，其中當步驟(a)到步驟(d)稱為一個循環時，執行多個循環且在所述多個循環期間供應的所述等離子的功率水平彼此不同。

3.根據權利要求2所述的等離子穩定化方法，其中在所述多個循環期間供應的所述等離子的功率水平從在所述襯底上的膜沉積過程期間供應的等離子的功率水平的10％到100％的范圍內循序地增加。

4.根據權利要求3所述的等離子穩定化方法，其中所述等離子的功率水平逐步地增加。

5.根據權利要求3所述的等離子穩定化方法，其中所述多個循環包含點燃前循環、中間點燃循環或點燃后循環。

6.根據權利要求5所述的等離子穩定化方法，其中在所述點燃前循環、所述中間點燃循環以及所述點燃后循環期間供應的所述等離子的功率水平分別是在所述襯底上的所述膜沉積過程期間供應的所述等離子的功率水平的1/3、1/2和1倍。

7.根據權利要求5所述的等離子穩定化方法，其中重復執行所述點燃前循環、所述中間點燃循環以及所述點燃后循環中的每一者三到五次。

8.根據權利要求1所述的等離子穩定化方法，其中當步驟(a)到步驟(d)稱為一個循環時，執行多個循環且在所述多個循環期間供應的所述等離子的功率水平是相同的且小于在所述襯底上的膜沉積過程期間供應的等離子的功率水平。

9.根據權利要求1所述的等離子穩定化方法，其中所述源氣體、所述沖洗氣體以及所述反應性氣體的流動速率與在所述襯底上的膜沉積過程期間供應的源氣體、沖洗氣體以及反應性氣體的流動速率相同。

10.根據權利要求1所述的等離子穩定化方法，其中在步驟(a)到步驟(d)期間，薄膜形成于所述反應器的內壁上。

11.根據權利要求1所述的等離子穩定化方法，其中所述反應性氣體和所述沖洗氣體是相同類型的反應性沖洗氣體，

其中當所述反應性沖洗氣體未通過所述等離子而活化時，所述反應性沖洗氣體不與所述源氣體反應，且當所述反應性沖洗氣體通過所述等離子而活化時，所述反應性沖洗氣體與所述源氣體反應。

12.一種沉積方法，其包括：

執行根據權利要求1所述的等離子穩定化方法；

將所述襯底裝載到所述反應器中；以及

在所述襯底上執行沉積。

13.一種等離子穩定化方法，其包括：

供應沖洗氣體、反應性氣體以及源氣體的第一步驟；

在所述第一步驟之后，停止供應所述源氣體的第二步驟；

在所述第二步驟之后，施加等離子的第三步驟；

在所述第三步驟之后，停止施加所述等離子的第四步驟；以及

在所述第四步驟之后，將襯底裝載到反應器中且在所述襯底上執行沉積的第五步驟。

14.根據權利要求13所述的等離子穩定化方法，其中在所述第二步驟和所述第三步驟期間以及在所述第四步驟和所述第五步驟期間供應所述沖洗氣體和所述反應性氣體。