[發明專利]紫外光敏感彈性體材料、合成方法及其在構建二維浮雕圖案和三維復雜形狀方面的應用

有效

• 申請號: 201710142640.X
• 申請日: 2017-03-10
• 公開（公告）號: CN106947040B
• 公開（公告）日: 2019-02-26
• 發明（設計）人: 白靜;史子興;印杰
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: C08F297/04
• 分類號: C08F297/04;C08F8/00;C08F8/34;B33Y80/00
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種紫外光敏感彈性體材料的合成方法，該紫外光敏感彈性體材料是一種光二聚基團接枝到彈性體分子鏈，其特征在于，合成方法具體步驟如下：

(1)將含有孤立雙鍵的彈性體和巰基羥基化合物溶解在有機溶劑中，攪拌均勻后，加入光引發劑，在紫外光照的條件下發生巰烯點擊反應，得到羥基接枝后的改性彈性體；其中：巰基羥基化合物為分子結構中同時含有羥基和巰基的化合物；

(2)將羥基接枝后的改性彈性體和含羧基、酸酐或酰氯中任意一種結構的光二聚基團化合物溶解在有機溶劑中，在20-120℃溫度下反應形成酯鍵，將光二聚基團接枝到彈性體分子鏈上，得到紫外光敏感彈性體材料。

2.根據權利要求1所述的合成方法，其特征在于，步驟(1)中，所述巰基羥基化合物和彈性體中孤立雙鍵的摩爾比為0.01：1-1：1；所述含有孤立雙鍵的彈性體為苯乙烯類熱塑性彈性體SBS，SIS、SIBS、順丁橡膠，丁腈橡膠，天然橡膠或EPDM；所述巰基羥基化合物選自巰基乙醇、巰基丙醇、巰基丁醇或巰基甘油中任意一種；所述光引發劑為自由基光引發劑或者陽離子型光引發劑。

3.根據權利要求2所述的合成方法，其特征在于，步驟(2)中，光二聚基團化合物中含有的光二聚基團選自香豆素基團，蒽基團，查爾酮基團或肉桂酸酯基團中任意一種或多種；光二聚基團化合物中的羧基、酸酐或酰氯與羥基接枝彈性體分子鏈上的羥基摩爾比為0.01：1-1：1。

4.根據權利要求2所述的合成方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(2)中，有機溶劑選自四氫呋喃、醇類、氯仿、二氯甲烷、二甲基亞砜、1，4-二氧六環、N,N’-二甲基甲酰胺、N,N’-二甲基乙酰胺、N-甲基-吡咯烷酮、苯、甲苯或二甲苯中的任一種。