[發明專利]高分子縫線結構及其使用方法

在審

• 申請號: 201710142002.8
• 申請日: 2017-03-10
• 公開（公告）號: CN108570737A
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 謝克昌;程啟正;何扭今
• 申請（專利權）人: 山華企業股份有限公司
• 主分類號: D02G3/46
• 分類號: D02G3/46;D02G3/40
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 張雅軍;史瞳

1.一種高分子縫線結構，適用于一個織物，其特征在于：該高分子縫線結構包含一個縫織于該織物上的第一線段單元，及一個交織于該第一線段單元而與該第一線段單元界定出多個接觸處的第二線段單元，該第一線段單元包括一個第一縫線，及一個附著于該第一縫線的第一接著層，該第二線段單元包括一個第二縫線，及一個附著于該第二縫線而與該第一線段單元的第一接著層于所述接觸處上相互接觸并接合的第二接著層。

2.根據權利要求1所述的高分子縫線結構，其特征在于：該第一線段單元在該織物的內外兩側分別形成多個彼此相間隔的線跡，該第二線段單元是與該第一線段單元形成于該織物內側的所述線跡交織而形成所述接觸處。

3.根據權利要求1所述的高分子縫線結構，其特征在于：該第一接著層為烯丙基聚氧代氮代苯并環己烷。

4.根據權利要求1所述的高分子縫線結構，其特征在于：該第二接著層為雙酚A型環氧樹脂。

5.一種高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：該使用方法包含一個前置步驟、一個縫線步驟，及一個催化步驟，在該前置步驟中，準備一個第一線段單元，及一個第二線段單元，該第一線段單元包括一個第一縫線，及一個附著于該第一縫線的第一接著層，該第二線段單元包括一個第二縫線，及一個附著于該第二縫線的第二接著層，在該縫線步驟中，將該第一線段單元縫制于一個織物上，并使該第二線段單元交織該第一線段單元而形成多個接觸處，在該縫線步驟中，該第一接著層與該第二接著層在接觸時不相互接合，在該催化步驟中，以一個催化裝置對該第一線段單元及該第二線段單元進行催化，使所述接觸處上相互接觸的第一接著層及第二接著層因受催化而可相互接合。

6.根據權利要求5所述高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：在該催化步驟中，該催化裝置可加熱該第一接著層及該第二接著層，使在所述接觸處上相互接觸的第一接著層及第二接著層相互黏合。

7.根據權利要求5所述高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：在該縫線步驟中，該第一線段單元縫織時是在該織物的內外兩側分別形成多個彼此相間隔的線跡，該第二線段單元是與該第一線段單元形成于該織物內側的所述線跡交織而形成所述接觸處。

8.根據權利要求5所述高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：在該前置步驟中，該第一接著層為烯丙基聚氧代氮代苯并環己烷，該第二接著層為雙酚A型環氧樹脂。

9.根據權利要求8所述高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：在該催化步驟中，該催化裝置為加熱器。

10.根據權利要求9所述高分子縫線結構的使用方法，其特征在于：在該催化步驟中，該催化裝置以超過攝氏120度的溫度對該第一線段單元及該第二線段單元加熱以進行催化。