[發(fā)明專利]一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710141053.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107065430B | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧意飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海集成電路研發(fā)中心有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/36 | 分類號(hào): | G03F1/36;G03F1/38 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;陳慧弘 |
| 地址: | 201210 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 規(guī)則 分辨率 輔助 圖形 添加 方法 | ||
1.一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S01:設(shè)計(jì)主圖形,所述主圖形為需要曝光顯影的各種圖形的陣列集合;
步驟S02:基于添加規(guī)則在主圖形的直邊外和尖角外上添加亞分辨率輔助圖形;
步驟S03:進(jìn)行光刻仿真;
步驟S04:掃描仿真結(jié)果,計(jì)算主圖形中各個(gè)圖形經(jīng)曝光后的尺寸,獲取無(wú)法達(dá)到設(shè)計(jì)目標(biāo)值或足夠工作窗口的圖形,設(shè)為工藝薄弱圖形;其中,所述工藝薄弱圖形位于主圖形的最外圈圖形所包圍的內(nèi)部;
步驟S05:在工藝薄弱圖形周圍空隙添加滿足光刻版可制造性規(guī)則的旋轉(zhuǎn)的亞分辨率輔助圖形;其中,所述亞分辨率輔助圖形的邊與其周圍主圖形的最小距離均滿足光刻版可制造性規(guī)則。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S05中,所述旋轉(zhuǎn)的角度為45°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S02和S05中,所述亞分辨率輔助圖形的形狀包括長(zhǎng)方形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S02和S05中,所述亞分辨率輔助圖形的形狀是正方形。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S02中,所述添加規(guī)則包括定義亞分辨率輔助圖形的尺寸、亞分辨率輔助圖形與主圖形的距離、亞分辨率輔助圖形與相鄰亞分辨率輔助圖形的距離。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S01中,所述主圖形為矩陣通孔圖形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于規(guī)則的亞分辨率輔助圖形添加方法,其特征在于,所述步驟S05中,在所述工藝薄弱圖形的周圍均勻添加4個(gè)旋轉(zhuǎn)45°的正方形的亞分辨率輔助圖形。
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- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
- 規(guī)則發(fā)現(xiàn)程序、規(guī)則發(fā)現(xiàn)處理和規(guī)則發(fā)現(xiàn)裝置
- 不規(guī)則瓶蓋
- 相關(guān)規(guī)則分析裝置以及相關(guān)規(guī)則分析方法
- 分析規(guī)則調(diào)整裝置、分析規(guī)則調(diào)整系統(tǒng)以及分析規(guī)則調(diào)整方法
- 規(guī)則抽取方法和規(guī)則抽取設(shè)備
- 終端規(guī)則引擎裝置、終端規(guī)則運(yùn)行方法
- 布(規(guī)則)
- 規(guī)則呈現(xiàn)方法、存儲(chǔ)介質(zhì)和規(guī)則呈現(xiàn)裝置
- 可編寫規(guī)則配置模塊、規(guī)則生成系統(tǒng)、及規(guī)則管理平臺(tái)
- 不規(guī)則圍棋





