[發明專利]一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法有效
| 申請號： | 201710141053.9 | 申請日： | 2017-03-10 |
| 公開（公告）號： | CN107065430B | 公開（公告）日： | 2021-01-29 |
| 發明（設計）人： | 盧意飛 | 申請（專利權）人： | 上海集成電路研發中心有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/36 | 分類號： | G03F1/36;G03F1/38 |
| 代理公司： | 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吳世華;陳慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 規則 分辨率 輔助 圖形 添加 方法 | ||
1.一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟S01：設計主圖形，所述主圖形為需要曝光顯影的各種圖形的陣列集合；
步驟S02：基于添加規則在主圖形的直邊外和尖角外上添加亞分辨率輔助圖形；
步驟S03：進行光刻仿真；
步驟S04：掃描仿真結果,計算主圖形中各個圖形經曝光后的尺寸，獲取無法達到設計目標值或足夠工作窗口的圖形，設為工藝薄弱圖形；其中，所述工藝薄弱圖形位于主圖形的最外圈圖形所包圍的內部；
步驟S05：在工藝薄弱圖形周圍空隙添加滿足光刻版可制造性規則的旋轉的亞分辨率輔助圖形；其中，所述亞分辨率輔助圖形的邊與其周圍主圖形的最小距離均滿足光刻版可制造性規則。
2.根據權利要求1所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S05中，所述旋轉的角度為45°。
3.根據權利要求1所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S02和S05中，所述亞分辨率輔助圖形的形狀包括長方形。
4.根據權利要求3所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S02和S05中，所述亞分辨率輔助圖形的形狀是正方形。
5.根據權利要求1所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S02中，所述添加規則包括定義亞分辨率輔助圖形的尺寸、亞分辨率輔助圖形與主圖形的距離、亞分辨率輔助圖形與相鄰亞分辨率輔助圖形的距離。
6.根據權利要求1所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S01中，所述主圖形為矩陣通孔圖形。
7.根據權利要求1所述的一種基于規則的亞分辨率輔助圖形添加方法，其特征在于，所述步驟S05中，在所述工藝薄弱圖形的周圍均勻添加4個旋轉45°的正方形的亞分辨率輔助圖形。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
