[發(fā)明專利]氣體分析裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710140558.3
• 申請日: 2012-12-27
• 公開（公告）號: CN107421952A
• 公開（公告）日: 2017-12-01
• 發(fā)明（設計）人: 大西敏和;辻本敏行
• 申請（專利權）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/85
• 分類號: G01N21/85;G01N21/3504;G01N21/15
• 代理公司: 上海華誠知識產(chǎn)權代理有限公司31300
• 代理人: 肖華

1.一種氣體分析裝置，其特征在于，包括：

形成用于向在煙道內(nèi)流動的試樣氣體的規(guī)定的測定區(qū)域投射測定光、和/或從該測定區(qū)域接收測定光的光路的管狀構件；

對所述測定區(qū)域內(nèi)的試樣氣體投射測定光、和/或從該測定區(qū)域接收測定光的光學系統(tǒng)構件；

吹掃氣體提供管，其具有中空部，所述中空部包含用于向在所述光學系統(tǒng)構件與所述測定區(qū)域之間的區(qū)域提供吹掃氣體的吹掃氣體流路、和所述測定光的光路，所述吹掃氣體提供管與所述管狀構件的內(nèi)壁面隔開第1間隙地配置于所述管狀構件的內(nèi)部；

凸緣，其以在所述管狀構件的外壁面與所述安裝部的內(nèi)壁面之間形成第2間隙的方式固定在設置于所述煙道的側(cè)壁的開口的安裝部上。

2.如權利要求1所述的氣體分析裝置，其特征在于，

在所述吹掃氣體提供管的中空部內(nèi)流動的吹掃氣體為層流。

3.如權利要求1或2所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述吹掃氣體提供管的頂端配置于所述測定區(qū)域的端部附近。

4.如權利要求1或2所述的氣體分析裝置，其特征在于，

進一步包括，設置于所述吹掃氣體提供管的頂端、從所述測定區(qū)域遮蔽所述第2間隙的第2遮蔽板。

5.如權利要求1或2所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述第2間隙構成，用于向所述光學系統(tǒng)構件與所述測定區(qū)域之間的區(qū)域提供吹掃氣體的第2吹掃氣體流路，

所述氣體分析裝置進一步包括：為了攪拌通過所述第2吹掃氣體流路的吹掃氣體而設于所述第2間隙中的攪拌部。

6.如權利要求5所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述管狀構件與煙道內(nèi)的試樣氣體的流路交叉配置，用以將在所述煙道內(nèi)流動的試樣氣體導入內(nèi)部中空內(nèi)的所述測定區(qū)域，

所述光學系統(tǒng)構件包括：設于所述管狀構件的第1端的、具有將所述測定光出射到測定區(qū)域的發(fā)光部和接收通過了所述測定區(qū)域內(nèi)的試樣氣體的測定光的受光部的第1光學系統(tǒng)構件；以及具有設于所述管狀構件的第2端、將來自所述發(fā)光部的照射光反射至所述受光部側(cè)的反射器的第2光學系統(tǒng)構件，

所述氣體分析裝置進一步包括，與所述第2間隙連通、且頂端位于所述第2光學系統(tǒng)構件的附近的頂端部吹掃氣體提供管，

通過所述第2吹掃氣體流路和所述頂端部吹掃氣體提供管，向所述第2光學系統(tǒng)構件附近提供吹掃氣體。

7.如權利要求5所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述攪拌部包括，為了攪拌通過所述第2間隙的吹掃氣體而設于所述吹掃氣體提供管的外壁面上的一個或多個隔板。

8.如權利要求3所述的氣體分析裝置，其特征在于，

進一步包括，設置于所述吹掃氣體提供管的頂端、從所述測定區(qū)域遮蔽所述第2間隙的第2遮蔽板。

9.如權利要求3所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述第2間隙構成，用于向所述光學系統(tǒng)構件與所述測定區(qū)域之間的區(qū)域提供吹掃氣體的第2吹掃氣體流路，

所述氣體分析裝置進一步包括：為了攪拌通過所述第2吹掃氣體流路的吹掃氣體而設于所述第2間隙中的攪拌部。

10.如權利要求9所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述管狀構件與煙道內(nèi)的試樣氣體的流路交叉配置，用以將在所述煙道內(nèi)流動的試樣氣體導入內(nèi)部中空內(nèi)的所述測定區(qū)域，

所述光學系統(tǒng)構件包括：設于所述管狀構件的第1端的、具有將所述測定光出射到測定區(qū)域的發(fā)光部和接收通過了所述測定區(qū)域內(nèi)的試樣氣體的測定光的受光部的第1光學系統(tǒng)構件；以及具有設于所述管狀構件的第2端、將來自所述發(fā)光部的照射光反射至所述受光部側(cè)的反射器的第2光學系統(tǒng)構件，

所述氣體分析裝置進一步包括，與所述第2間隙連通、且頂端位于所述第2光學系統(tǒng)構件的附近的頂端部吹掃氣體提供管，

通過所述第2吹掃氣體流路和所述頂端部吹掃氣體提供管，向所述第2光學系統(tǒng)構件附近提供吹掃氣體。

11.如權利要求9所述的氣體分析裝置，其特征在于，

所述攪拌部包括，為了攪拌通過所述第2間隙的吹掃氣體而設于所述吹掃氣體提供管的外壁面上的一個或多個隔板。