[發明專利]光學儀器、相位板及像形成方法

有效

• 申請號: 201710138918.6
• 申請日: 2017-03-09
• 公開（公告）號: CN107179601B
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 岡田昌也;巖永茂樹
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: G02B21/00
• 分類號: G02B21/00;G01N21/64
• 代理公司: 北京市安倫律師事務所 11339
• 代理人: 楊永波

1.一種光學儀器，包括：

對第1波長的光施以第1相位調制并對第2波長的光施以第2相位調制的通用的相位調制掩膜；

使所述第1波長的光和所述第2波長的光入射所述相位調制掩膜的同一入射區域的照射光學系統；以及

聚集經所述第1相位調制后的所述第1波長的光和經所述第2相位調制后的所述第2波長的光并形成與點擴展函數相應的像的聚光光學系統；

其中，所述相位調制掩膜在所述入射區域包括：對所述第1波長的光施以第1相位調制的第1區域、以及對所述第2波長的光施以第2相位調制的第2區域；

所述第1區域和所述第2區域分別由復數個區域構成；

所述第1區域的各區域和所述第2區域的各區域彼此相鄰。

2.一種光學儀器，包括：

對第1波長的光和第2波長的光施以相位調制的通用的相位調制掩膜；

使所述第1波長的光和所述第2波長的光入射所述相位調制掩膜的照射光學系統；以及

聚集經所述相位調制掩膜相位調制后的所述第1波長的光和所述第2波長的光并形成與點擴展函數相應的像的聚光光學系統；

其中，所述相位調制掩膜是能夠根據輸入來設定相位調制圖形的相位調制器，

所述相位調制器通過基于所述第1波長的光用的灰度和所述第2波長的光用的灰度之間的灰度的輸入而設定的所述相位調制圖形，來對所述第1波長的光在其所入射的所述相位調制器區域的第一區域施以第1相位調制和所述第2波長的光在其所入射的所述相位調制器區域的第二區域施以第2相位調制。

3.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述相位調制掩膜是相位板。

4.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述相位調制掩膜是能夠根據輸入來設定相位調制圖形的相位調制器；

所述相位調制圖形在所述入射區域包括：用于對所述第1波長的光施以第1相位調制的第1區域、以及用于對所述第2波長的光施以第2相位調制的第2區域。

5.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1區域的各區域和所述第2區域的各區域為方形。

6.根據權利要求5所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1區域的各區域和所述第2區域的各區域從所述入射區域的一端延伸到另一端。

7.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1區域的各區域和所述第2區域的各區域為環狀。

8.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1波長的光和所述第2波長的光分別是從熒光物質中產生的第1熒光和第2熒光。

9.根據權利要求8所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1熒光的波段和所述第2熒光的波段分別有一定寬度，所述第1熒光的波段的一部分和所述第2熒光的波段的一部分互相重合。

10.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述第1波長的光是強度峰值在所述第1波長的光，

所述第2波長的光是強度峰值在所述第2波長的光。

11.根據權利要求8所述的光學儀器，其特征在于：

所述照射光學系統具有物鏡，

所述相位調制掩膜在拍攝面上分別使所述第1波長的光的光點和所述第2波長的光的光點成像于兩點，并與所述物鏡與所述第1波長的光的光點和所述第2波長的光的光點的距離相應地調制所述第1熒光和所述第2熒光的相位，以使得在所述拍攝面上形成所述第1波長的光的兩個光點像和所述第2波長的光的兩個光點像旋轉的所述點擴展函數。

12.根據權利要求1所述的光學儀器，其特征在于：

所述聚光光學系統包括拍攝所述第1波長的光的所述像和所述第2波長的光的所述像的拍攝部件。