[發(fā)明專利]一種微弧氧化涂層及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710137959.3 | 申請(qǐng)日： | 2017-03-09 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN107059094B | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳傳忠;高丹丹;于慧君 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 山東大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C25D11/30 | 分類號(hào)： | C25D11/30 |
| 代理公司： | 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221 | 代理人： | 王志坤 |
| 地址： | 250061 山*** | 國(guó)省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氧化 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，所述的微弧氧化處理具體步驟為：將預(yù)處理的鎂合金基體晾干置于電解液中作為正極，不銹鋼槽作為負(fù)極，通冷卻水循環(huán)保持電解液溫度控制在50℃以下，采用微弧氧化電源供電，電源頻率500-600Hz，正占空比20％-40％，負(fù)占空比10％-30％，添加負(fù)向電壓20-60V，在正向電壓400V-500V的恒壓下通電反應(yīng)10-30min；
所述電解液由基礎(chǔ)電解液和聚乙二醇組成，基礎(chǔ)電解液配方為：Na2SiO3﹒9H2O的濃度為10-20g/L，CaHPO4的濃度為5-15g/L，KOH的濃度為2-10g/L，NH4HF2的濃度為5-10g/L，C3H8O3的濃度為2-10ml/L，H2O2的濃度為2-10ml/L；
所述聚乙二醇的濃度為1-20g/L；
所述鎂合金基體為Mg-2Sr；
所述微弧氧化涂層主要含有MgO、MgF2、CaO、CaF2、Mg2SiO4、MgSiO3、CaSiO3、SrSiO3、Mg3(PO4)2和Ca3(PO4)2物相。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，所述聚乙二醇的濃度為2-6g/L、6-10g/L、10-14g/L或14-18g/L。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，所述聚乙二醇的濃度為8g/L。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，所述基礎(chǔ)電解液配方為：Na2SiO3﹒9H2O的濃度為12-18g/L，CaHPO4的濃度為8-12g/L，KOH的濃度為4-6g/L，NH4HF2的濃度為6-8g/L，C3H8O3的濃度為6-8ml/L，H2O2的濃度為4-6ml/L。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，基礎(chǔ)電解液配方為：Na2SiO3﹒9H2O的濃度為15g/L，CaHPO4的濃度為10g/L，KOH的濃度為5g/L，NH4HF2的濃度為7g/L，C3H8O3的濃度為7ml/L，H2O2的濃度為5ml/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微弧氧化涂層的制備方法，其特征在于，聚乙二醇的濃度為8g/L，Na2SiO3﹒9H2O的濃度為15g/L，CaHPO4的濃度為10g/L，KOH的濃度為5g/L，NH4HF2的濃度為7g/L，C3H8O3的濃度為7ml/L，H2O2的濃度為5ml/L。
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