[發明專利]可調平面陰極機構及真空鍍膜裝置

在審

• 申請號: 201710136460.0
• 申請日: 2017-03-08
• 公開（公告）號: CN108570648A
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 陳海峰;梁忠;霍啟科
• 申請（專利權）人: 中國南玻集團股份有限公司;深圳南玻應用技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄧云鵬

1.一種可調平面陰極機構，其特征在于，包括：

平面陰極部件，包括陰極體基座、背板、靶材壓板及多個磁體組件；所述背板與所述陰極體基座形成收容腔；所述靶材壓板用于將靶材定位于所述背板的外側；所述多個磁體組件設于所述收容腔中，多個所述磁體組件與所述背板相對而設，且多個所述磁體組件沿所述陰極體基座的長度方向分布；及

多個移位組件，分別與多個所述磁體組件連接，各所述移位組件能帶動對應的所述磁體組件遠離或靠近所述背板運動，以增大或減小所述磁體組件與所述靶材的距離，進而增大或減小所述靶材與所述磁體組件相對的表面的磁場強度。

2.如權利要求1所述的可調平面陰極機構，其特征在于，在所述陰極體基座的長度方向上對應所述磁體組件和所述移位組件，所述陰極體基座分為多個子陰極體基座，所述背板分為多個子背板，所述靶材壓板分為多個子靶材壓板；所述子陰極體基座和對應的子背板形成子收容腔，所述多個磁體組件分別設于多個子收容腔中，對應的所述子陰極體基座、所述子背板、所述子靶材壓板、所述磁體組件和所述移位組件構成所述可調平面陰極機構的結構單元。

3.如權利要求1或2所述的可調平面陰極機構，其特征在于，所述移位組件包括驅動件、傳動件和連接桿，所述連接桿的兩端分別連接于所述傳動件和對應的磁體組件，所述驅動件用于驅動所述傳動件，所述傳動件帶動所述連接桿運動，從而使得所述連接桿帶動所述磁體組件遠離或靠近所述背板運動。

4.如權利要求3所述的可調平面陰極機構，其特征在于，所述連接桿連接于所述磁體組件的一端位于所述收容腔中，所述連接桿的另一端露出于所述陰極體基座的頂部。

5.如權利要求3所述的可調平面陰極機構，其特征在于，所述驅動件為電機，所述傳動件為轉向齒輪箱，所述驅動件的輸出軸的軸向與所述連接桿的軸向垂直設置。

6.如權利要求3所述的可調平面陰極機構，其特征在于，所述磁體組件包括磁體座和磁體，所述磁體安裝于所述磁體座上，所述磁體組件的磁體座連接于所述連接桿。

7.一種真空鍍膜裝置，其特征在于，包括真空鍍膜腔體和如權利要求1～6任一項所述的可調平面陰極機構，所述可調平面陰極機構設于所述真空鍍膜腔體內，且所述多個移位組件安裝于所述真空鍍膜腔體的頂部。

8.如權利要求7所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鍍膜腔體內設有傳送輥組件，所述傳送輥組件位于所述可調平面陰極機構的下方，且與所述靶材相對設置；所述傳送輥組件的傳送方向與所述陰極體基座的長度方向垂直設置。

9.如權利要求7所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鍍膜裝置還包括檢測儀和控制裝置，所述檢測儀用于獲取鍍膜工件沿所述陰極體基座的長度方向上多個位置的鍍膜厚度；所述控制裝置用于根據所述多個位置的鍍膜厚度，調節相應的移位組件帶動對應的磁體組件遠離或靠近所述背板運動。

10.如權利要求9所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述真空鍍膜裝置還包括進樣腔體和用于所述檢測儀檢測的檢測腔體，所述進樣腔體和所述檢測腔體分別能與所述真空鍍膜腔體連通，且所述進樣腔體、所述真空鍍膜腔體和所述檢測腔體依次位于所述傳送輥組件的傳送方向上。