[發明專利]一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝

在審

• 申請號: 201710136426.3
• 申請日: 2017-03-08
• 公開（公告）號: CN106580734A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 張仕英
• 申請（專利權）人: 張仕英
• 主分類號: A61K8/81
• 分類號: A61K8/81;A61K8/92;A61K8/31;A61K8/9789;A61K8/67;A61Q1/14;A61Q19/00
• 代理公司: 廣州天河萬研知識產權代理事務所(普通合伙)44418
• 代理人: 劉強,陳軒

1.一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的卸妝乳配方包括以重量百分比計的油酯10-20%、乳化劑2.5-7%、增稠劑0.5-1%、保濕劑10-18%、防腐劑0.2-0.6%、目數為80-90目多孔PMMA粒子5- 10%、pH調節劑0.1-0.2%、活性添加成分0.2%-0.4%、精油0.1-0.5%及余量去離子水。

2.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的油脂為蘆薈油、角鯊烷、橄欖油中的一種或多種。

3.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的乳化劑為聚乙二醇硬脂酸酯、單硬脂酸甘油酯、聚山梨醇酯中的一種或多種。

4.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的增稠劑為卡波940。

5.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的多孔PMMA粒子的微觀結構是帶狀彎曲、凹凸不平、表面多孔洞。

6.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的保濕劑為甘油、丙二醇、山梨醇、吡咯烷酮羧酸鈉中一種或多種。

7.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的防腐劑為對羥基苯甲酸乙酯、對羥基苯甲酸丙酯中的一種或多種。

8.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的pH調節劑為三乙醇胺。

9.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的活性添加成分為金縷梅萃取液、維生素E。

10.根據權利要求1所述的一種含多孔PMMA粒子的卸妝乳的配方以及制備工藝，其特征在于所述的精油為薰衣草精油。

11.一種如權利要求1-10所述的卸妝乳的制備方法，包括以下步驟：

（1）按上述配比稱量好各組分；

（2）將油脂加到油相中，攪拌加熱至75-80℃，使其完全溶解，制成油相；

（3）將去離子水、保濕劑、乳化劑、增稠劑、80-90目多孔PMMA粒子加到水相中，攪拌加熱至75-80℃，制成水相；

（4）將水相和油相分別加到乳化鍋，攪拌5min，加入pH調節劑調節體系的pH在6左右，抽真空均質2-3min，保溫攪拌20-30min，然后在攪拌的情況下降溫；

（5）當體系溫度降到45℃以下，在攪拌的情況下加入金縷梅萃取液、維生素E和薰衣草精油，攪拌均勻即可放料，得到所需卸妝乳。