[發明專利]光學成像系統

有效

• 申請號: 201710134854.2
• 申請日: 2017-03-07
• 公開（公告）號: CN107305278B
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發明（設計）人: 賴建勛;唐乃元;劉燿維;張永明
• 申請（專利權）人: 先進光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B13/18
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

1.一種光學成像系統，其特征在于，由物側至像側依序包含：

一第一透鏡，具有屈折力；

一第二透鏡，具有屈折力；

一第三透鏡，具有屈折力；

一第四透鏡，具有屈折力；

一第五透鏡，具有屈折力；

一成像面；以及

一透鏡定位元件；

其中該透鏡定位元件呈中空且能夠容置任一透鏡，并使該第一透鏡至該第五透鏡排列于光軸上，該透鏡定位元件包括一物端部以及一像端部，該物端部靠近物側且具有一第一開口，該像端部靠近像側具有一第二開口，該透鏡定位元件外壁包含至少兩個切平面，該多個切平面分別具有至少一成型灌口痕，該光學成像系統具有屈折力的透鏡只有該第一透鏡、該第二透鏡、該第三透鏡、該第四透鏡與該第五透鏡，該第一透鏡至該第五透鏡的屈折力依序為負正正正負、負正正負正、或負正負正正，該光學成像系統的焦距為f，該光學成像系統的入射瞳直徑為HEP，該光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF，該第一透鏡至該第五透鏡于1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5，前述ETP1至ETP5的總和為SETP，該第一透鏡至該第五透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5，前述TP1至TP5的總和為STP，其滿足下列條件：1.0≤f/HEP≤1.6；32.5deg≤HAF≤50.001deg以及0.984≤SETP/STP≤0.999。

2.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，該透鏡定位元件外壁包含至少三個切平面，該多個切平面分別具有至少一成型灌口痕。

3.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，該第一開口的內徑為OD，該第二開口的內徑為ID，其滿足下列條件：0.1≤OD/ID≤10。

4.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，該物端部的最小厚度為OT以及該像端部的最小厚度為IT，其滿足下列條件：0.1≤OT/IT≤10。

5.根據權利要求2所述的光學成像系統，其特征在于，該第一透鏡物側面上于1/2HEP高度的坐標點至該第五透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列公式：0.3≤SETP/EIN<1。

6.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，該光學成像系統包括一濾光元件，該濾光元件位于該第五透鏡以及該成像面之間，該第五透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至該濾光元件間平行于光軸的距離為EIR，該第五透鏡像側面上與光軸的交點至該濾光元件間平行于光軸的距離為PIR，其滿足下列公式：0.1≤EIR/PIR≤1.1。

7.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，光學成像系統于該成像面上垂直于光軸具有一成像高度HOI，可見光在該成像面上的光軸、0.3HOI以及0.7HOI三處于空間頻率55cycles/mm的調制轉換對比轉移率分別以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示，其滿足下列條件：MTFE0≥0.2；MTFE3≥0.01；以及MTFE7≥0.01。

8.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，該第三透鏡像側面上于1/2HEP高度的坐標點至該成像面間平行于光軸的水平距離為EBL，該第五透鏡像側面上與光軸的交點至該成像面平行于光軸的水平距離為BL，其滿足下列公式：0.1≤EBL/BL≤1.5。

9.根據權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，還包括一光圈，并且于該光圈至該成像面于光軸上的距離為InS，該第一透鏡物側面至該成像面于光軸上的距離為HOS，其滿足下列公式：0.2≤InS/HOS≤1.1。