[發(fā)明專利]一種磁共振成像系統(tǒng)和CT設(shè)備質(zhì)量控制多參數(shù)模體

在審

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• 申請日: 2017-03-08
• 公開（公告）號: CN108567428A
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈愛宗;劉同柱;房坤;陳玉俊;谷瑋
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽省立醫(yī)院
• 主分類號: A61B5/055
• 分類號: A61B5/055
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219
• 代理人: 王華英

本發(fā)明提供一種磁共振成像系統(tǒng)和CT設(shè)備質(zhì)量控制多參數(shù)模體，包括盒體和多個測試塊；所述測試塊包括測試層和用于堆疊和定位所述測試塊的支撐層，多個所述支撐層依次堆疊設(shè)置在所述盒體中，所述測試層設(shè)置在所述支撐層中；多個所述測試層包括圖像幾何畸變測試層、低對比分辨力測試層和均勻性及信噪比測試層；或者多個所述測試層包括所述圖像幾何畸變測試層、所述低對比分辨力測試層和所述均勻性及信噪比測試層中的任意兩種。能同時滿足MRI和CT設(shè)備的質(zhì)控的需求，產(chǎn)品功能多樣化，能夠滿足不同的測試需求，同時能夠測量多種參數(shù)、精度高、模塊化強(qiáng)，且測試層可以靈活組合。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及磁共振成像系統(tǒng)及CT設(shè)備質(zhì)量控制鄰域，特別是涉及一種磁共振成像系統(tǒng)和CT設(shè)備質(zhì)量控制多參數(shù)模體

背景技術(shù)

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,人們對自身的健康越來越重視，對生活質(zhì)量的要求也日益提高，因而對醫(yī)學(xué)影像設(shè)備的需求不斷增長。因此，保證醫(yī)學(xué)影像設(shè)備的安全運(yùn)行成為一項(xiàng)必不可少的工作。

磁共振成像(MRI)系統(tǒng)和CT設(shè)備都屬于大型醫(yī)學(xué)影像設(shè)備，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜，器件精密且不具有通用性，這加大了維修工作的難度，一旦這些設(shè)備出現(xiàn)故障，可能會對醫(yī)護(hù)人員造成人身傷害，而且設(shè)備停機(jī)維修一次將對醫(yī)院造成巨大的經(jīng)濟(jì)損失，為了減少醫(yī)院的損失和對醫(yī)護(hù)人員的傷害，需要對MRI和CT設(shè)備進(jìn)行質(zhì)量控制。

現(xiàn)有測試模體存在以下不足：MRI設(shè)備與CT設(shè)備質(zhì)控模體不能通用，產(chǎn)品功能單一。

因此，針對現(xiàn)有模體的不足，設(shè)計(jì)一種能同時滿足MRI和CT設(shè)備的質(zhì)控模體是很有必要的。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種磁共振成像系統(tǒng)和CT設(shè)備質(zhì)量控制多參數(shù)模體，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中MRI設(shè)備與CT設(shè)備質(zhì)控模體不能通用，產(chǎn)品功能單一的問題。

本發(fā)明提供一種磁共振成像系統(tǒng)和CT設(shè)備質(zhì)量控制多參數(shù)模體，包括盒體和多個測試塊；所述測試塊包括測試層和用于堆疊和定位所述測試塊的支撐層，多個所述支撐層依次堆疊設(shè)置在所述盒體中，所述測試層設(shè)置在所述支撐層中；多個所述測試層包括圖像幾何畸變測試層、低對比分辨力測試層和均勻性及信噪比測試層；或者多個所述測試層包括所述圖像幾何畸變測試層、所述低對比分辨力測試層和所述均勻性及信噪比測試層中的任意兩種。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述盒體包括上密封蓋、下密封蓋和側(cè)壁，所述上密封蓋和所述側(cè)壁的一端可拆卸連接，所述下密封蓋和所述側(cè)壁的另一端固定相連，所述上密封蓋上設(shè)有用于通液和排氣的通孔，所述盒體內(nèi)設(shè)有限位的凸起，多個所述測試塊上設(shè)有與所述凸起相對應(yīng)的限位凹槽。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述上密封蓋上固定設(shè)置有兩個灌液口。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中：所述上密封蓋還設(shè)置有裝配尼龍螺絲的螺絲孔，所述上密封蓋與所述側(cè)壁通過密封圈密封裝配，尼龍螺絲裝配于所述螺絲孔并抵壓于所述密封圈使得所述上密封蓋、所述密封圈和所述側(cè)壁密封裝配。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述圖像幾何畸變測試層設(shè)置有網(wǎng)格盤體、第一網(wǎng)格孔和與所述第一網(wǎng)格孔形狀相同第二網(wǎng)格孔，所述第一網(wǎng)格孔和所述第二網(wǎng)格孔設(shè)置在所述網(wǎng)格盤體中形成測試網(wǎng)格，所述測試網(wǎng)格按規(guī)則形狀分布，所述第二網(wǎng)格孔設(shè)置在所述測試網(wǎng)格的預(yù)設(shè)位置中，所述第二網(wǎng)格孔的尺寸大于所述第一網(wǎng)格孔。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述第一網(wǎng)格孔和所述第二網(wǎng)格孔的形狀均為正方形。

于本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述低對比分辨力測試層包括盤體、三組圓孔組和三組圓柱組；三組所述圓孔組和三組所述圓柱組均呈圓形分布，每組所述圓孔組由多個個直徑不同的圓孔組成，每組圓柱組由多個直徑與深度都不同的圓柱組成，所述圓孔組和所述圓柱組分別設(shè)置在所述盤體的兩側(cè)，且所述圓孔組設(shè)置在所述圓柱組和所述支撐壁之間，所述圓孔組的開口開設(shè)在所述盤體上。