[發明專利]能有效減少大理石橫梁長度的方法

有效

• 申請號: 201710131733.2
• 申請日: 2017-03-07
• 公開（公告）號: CN106909030B
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發明（設計）人: 袁征;王艷升
• 申請（專利權）人: 無錫影速半導體科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104
• 代理人: 殷紅梅

1.一種能有效減少大理石橫梁長度的方法，包括大理石橫梁（2）以及安裝于所述大理石橫梁（2）上的光路軸（1），在大理石橫梁（2）的下方設有左臺面（3）以及右臺面（4），所述左臺面（3）、右臺面（4）在大理石橫梁（2）下方呈并置式放置；其特征是：所述能有效減少大理石橫梁長度的方法，包括以下步驟：

（1）、所述大理石橫梁（2）通過橫梁支撐立柱（6）安裝于平臺底座（7）上，在所述平臺底座（7）上還設有與左臺面（3）、右臺面（4）配合的臺面導軌（8）；左臺面（3）、右臺面（4）能支撐在對應的臺面導軌（8）上，并能在臺面導軌（8）上運動，橫梁支撐立柱（6）分別位于左臺面（3）、右臺面（4）間的外側，橫梁支撐立柱（6）在平臺底座（7）上呈豎直放置，大理石橫梁（2）固定支撐在橫梁支撐立柱（6）的頂板，大理石橫梁（2）呈矩形狀，光路軸（1）上設置用于曝光的光路，光路軸（1）在大理石橫梁（2）上能沿大理石橫梁（2）的長度方向運動，光路能跟隨光路軸（1）同步運動，以滿足對左臺面（3）、右臺面（4）上的左臺面板體、右臺面板體的曝光；光路軸（1）移動區間，必須覆蓋左臺面（3）、右臺面（4）的范圍；在進行曝光時，放置于左臺面（3）上的左臺面板體與放置于右臺面（4）上的右臺面板體呈對稱式放置；

（2）、工作之前，光路軸（1）和左臺面（3）、右臺面（4）均處于待機位置；光路軸（1）待機位置為行程正中間；工作時，當需要先對左臺面（3）曝光時，光路軸（1）在左臺面（3）上的待機位置位于左臺面（3）的左側；當需要先對右臺面（4）曝光時，光路軸（1）在右臺面（4）上的待機位置位于右臺面（4）的右側；

對左臺面（3）曝光時，左臺面（3）移動至光路下方的曝光位置，同時光路軸（1）移動至左臺面（3）的左臺面起始位置，開始曝光；左臺面（3）曝光過程中，右臺面（4）移動至曝光開始位置；左臺面（3）曝光結束后，光路軸（1）由左臺面（3）的左側起始位置，移動至左臺面（3）的右側，以便對右臺面（4）開始曝光，對右臺面（4）曝光的過程與左臺面（3）曝光過程相一致；

（3）、左臺面（3）以左臺面（3）的左下角為定位點放板，右臺面（4）以右臺面（4）的右下角為定位點放板，當光路超出右臺面（4）的行程，在光路軸（1）正中間，沒有光路與橫梁支撐立柱（6）產生干涉的風險；左臺面（3）與右臺面（4）一樣，從而能有效減少大理石橫梁（2）的長度。