[發明專利]一種溝畦以及膜下滴灌暗溝栽培方法

在審

• 申請號: 201710131681.9
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN106912285A
• 公開（公告）日: 2017-07-04
• 發明（設計）人: 杜曉云;張秀;晉潔瓊;郭金
• 申請（專利權）人: 商都縣科技特派員工作站
• 主分類號: A01G1/00
• 分類號: A01G1/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本發明屬于農作物種植技術領域，尤其涉及一種溝畦以及膜下滴灌暗溝栽培方法。

背景技術

現有瓜果、花卉、蔬菜的栽培過程中，采用的是傳統的溝畦灌方法。

傳統溝畦灌方法中，一次灌水量大，地表長時間保持濕潤，不但棚溫、地溫降低太快，回升較慢，且蒸發量加大，室內濕度太高，易導致作物易發生病蟲害；

此外，在傳統溝畦灌較大灌水量作用下，使設施土壤受到較多的沖刷、壓實和侵蝕，若不及時中耕松土，會導致嚴重板結，通氣性下降，導致作物生長慢、產量低，土壤結構遭到一定程度破壞的問題；

最后，傳統溝畦還存在著費水、費時的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種溝畦以及膜下滴灌暗溝栽培方法，旨在上述背景技術中現有溝畦灌導致的各種問題。

本發明是這樣實現的，一種溝畦，該溝畦為壟、溝相間的畦，壟上鋪有滴灌帶，壟上覆蓋地膜，且兩壟之間的壟溝在地膜下形成一條暗溝，壟上定植作物。

優選地，所述壟的高度為20cm，所述壟的底部寬度為35cm。

本發明進一步提供了一種膜下滴灌暗溝栽培方法，該方法包括以下步驟：

(1)在種植作物時，將平整好的定植地做成壟、溝相間的畦；

(2)在高壟上鋪上滴灌帶，將兩壟和一條壟溝用地膜蓋上，使地膜下面形成一條暗溝；

(3)將作物定植在被地膜蓋上的兩個高壟上，形成兩高壟定植間隔一條膜下暗溝。

優選地，所述壟的高度為20cm，所述壟的底部寬度為35cm。

優選地，所述作物包括瓜果、花卉、蔬菜。

相比于現有技術的缺點和不足，本發明具有以下有益效果：

(1)節水、節肥、節農藥、節地：本發明平均可節水20％，節約肥料20％；可省農藥10％以上，殺蟲效果好，不易傷及害蟲天敵；此外還能減輕化肥、農藥對土壤、環境的污染。

(2)保土、保肥、增溫、調溫：本發明可有效避免土肥流失；本發明能確保地溫回升快，苗期具有明顯的增溫作用；本發明能有效地調節膜下地表溫度，為瓜類、茄果類蔬菜中后期生長創造良好的地溫環境。

(3)提高品質、增加產量25～35％：本發明所需農藥、化肥施用量減少，土壤污染減小；土壤水分運動主要借助于毛細管作用，不破壞團粒結構，土壤的透氣性、保溫性良好，有利于土壤養分的活化；因此，創造了有利于蔬菜生長發育的水、肥、氣、熱環境，生長快，抗病能力強，污染小，同時改善了對病害的控制，病原體通過水流傳播的機會很小，結果必然是產量高、品質好。

(4)防治鹽堿，適應鹽堿能力強：本發明不產生深層滲漏，能有效避免地下水位上升，遏制土壤次生鹽漬化的發生。

附圖說明

圖1是本發明溝畦橫向截面結構示意圖；

圖2是本發明溝畦的立體結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

如圖1～2所示，圖1是本發明溝畦橫向截面結構示意圖；圖2是本發明溝畦的立體結構示意圖。

本發明公開了一種溝畦，該溝畦為壟1、溝2相間的畦，壟1上鋪有滴灌帶3，壟1上覆蓋地膜4，且兩壟1之間的壟溝2在地膜4下形成一條暗溝，壟上定植作物5。

更具體的，根據實際需要，所述壟1的高度為20cm，所述壟1的底部寬度為35cm。滴灌帶3為設有滴水孔的滴管。

本發明進一步提供了一種膜下滴灌暗溝栽培方法，該方法包括以下步驟：

(1)在種植作物時，將平整好的定植地做成壟1、溝2相間的畦；

(2)在高壟上鋪上滴灌帶3，將兩壟和一條壟溝用地膜4蓋上，使地膜4下面形成一條暗溝；

(3)將作物5定植在被地膜4蓋上的兩個高壟上，形成兩高壟定植間隔一條膜下暗溝。

更具體的，根據實際需要，所述壟1的高度為20cm，所述壟1的底部寬度為35cm。更具體的，所述作物5包括瓜果、花卉、蔬菜。