[發(fā)明專利]承載裝置和曝光設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710129757.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106773553B | 公開(公告)日: | 2018-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳啟超;周子卿;韓乾浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 重慶京東方光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陳源 |
| 地址: | 400714 重慶市北*** | 國(guó)省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 承載 裝置 曝光 設(shè)備 | ||
1.一種承載裝置,包括承載臺(tái),所述承載臺(tái)上設(shè)置有貫穿該承載臺(tái)的升降通道,所述升降通道內(nèi)設(shè)置有升降結(jié)構(gòu),所述升降結(jié)構(gòu)與所述升降通道的內(nèi)壁之間存在間隔,其特征在于,
所述升降結(jié)構(gòu)與所述升降通道的內(nèi)壁之間還設(shè)置有光反射補(bǔ)償塊,所述光反射補(bǔ)償塊的頂面與所述承載臺(tái)的承載面的光反射率之差、所述光反射補(bǔ)償塊的頂面與所述升降結(jié)構(gòu)的頂面的光反射率之差均不大于預(yù)定閾值,所述預(yù)定閾值為2%;
所述升降結(jié)構(gòu)包括升降部和設(shè)置在該升降部頂端的支撐部;
所述光反射補(bǔ)償塊包括安裝本體和設(shè)置在該安裝本體頂面的反射層,所述反射層的上表面形成為所述光反射補(bǔ)償塊的頂面;所述安裝本體包括設(shè)置在所述升降通道內(nèi)壁上的外環(huán)體和設(shè)置在所述支撐部上、并環(huán)繞該支撐部的內(nèi)環(huán)體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,所述光反射補(bǔ)償塊在水平面上的正投影與所述升降結(jié)構(gòu)在水平面上的正投影的總投影完全覆蓋所述升降通道在所述水平面上的正投影。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,所述升降結(jié)構(gòu)頂面的光反射率與所述承載臺(tái)的承載面的光反射率相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的承載裝置,其特征在于,所述支撐部為板狀結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,當(dāng)所述支撐部的頂面與所述承載臺(tái)的承載面平齊時(shí),所述支撐部的頂面、所述光反射補(bǔ)償塊的頂面和所述承載臺(tái)的承載面形成連續(xù)的平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,所述外環(huán)體包括與升降通道內(nèi)壁接觸的外表面和背離所述升降通道內(nèi)壁的內(nèi)表面,所述內(nèi)環(huán)體包括朝向所述支撐部的內(nèi)表面和背離所述支撐部的外表面;
沿從所述升降結(jié)構(gòu)的頂端至底端方向,所述內(nèi)環(huán)體的外表面逐漸靠近或階段式靠近所述支撐部,所述外環(huán)體的內(nèi)表面與所述內(nèi)環(huán)體的外表面相匹配,以使得所述支撐部的頂面與所述承載臺(tái)的承載面平齊時(shí),所述內(nèi)環(huán)體的外表面與所述外環(huán)體的內(nèi)表面貼合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的承載裝置,其特征在于,所述安裝本體采用柔性材料制成。
8.一種曝光設(shè)備,其特征在于,包括權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的承載裝置。
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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