[發(fā)明專利]三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710127141.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106904002B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張曉陽(yáng);張彤;徐佳佳;蘇丹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B41J2/175 | 分類號(hào): | B41J2/175;B41J2/01;B41J29/393 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32204 | 代理人: | 李曉 |
| 地址: | 210096 *** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維 材料 陣列 大規(guī)模 噴墨 打印 方法 | ||
1.一種三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法,其特征在于包括以下步驟:
步驟1,配制適合噴墨打印的納米油墨;
步驟2,設(shè)計(jì)所需納米結(jié)構(gòu)陣列圖形,設(shè)置打印參數(shù),并將步驟1得到的納米油墨灌裝進(jìn)對(duì)應(yīng)墨盒中;
步驟3,噴墨打印,注射泵產(chǎn)生氣壓,通過(guò)氣管給每組墨盒和噴嘴供氣;襯底接地,將經(jīng)過(guò)表面處理的襯底放置在位移臺(tái)上、正對(duì)噴頭下方;接通電源,噴嘴產(chǎn)生墨滴,沉積在襯底上;同時(shí)位移臺(tái)加熱,設(shè)置溫度低于所用納米材料的熔點(diǎn),連續(xù)打印得到相應(yīng)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的納米結(jié)構(gòu)陣列;
步驟4,單個(gè)陣列單元打印結(jié)束后,移動(dòng)位移臺(tái),噴嘴在襯底的其他位置繼續(xù)打印;如此重復(fù),最終得到大規(guī)模的納米結(jié)構(gòu)陣列;
其中,所述噴嘴組成通用噴頭和專用噴頭,通用噴頭中的M×N個(gè)噴嘴呈矩陣排列,1≤M,N≤100;專用噴頭的噴嘴陣列形成所需的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu);
使用通用噴頭打印立體拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)圖形陣列時(shí),通用噴頭的每個(gè)噴嘴單獨(dú)控制噴墨,襯底不移動(dòng),單個(gè)噴嘴重復(fù)在上一個(gè)墨點(diǎn)上打印得到單根立體納米線;納米線的直徑等于墨點(diǎn)尺寸,軟件程序設(shè)定對(duì)多個(gè)噴嘴加電壓,工作的噴嘴陣列共同形成特定圖形,打印得到所需的三維超材料陣列單元;
使用專用噴頭打印立體拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)圖形陣列時(shí),直接打印得到與之匹配的三維超材料陣列圖形單元;
移動(dòng)襯底,在襯底其他區(qū)域進(jìn)行打印,得到另一個(gè)單元;操作多次,得到大面積周期性結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法,其特征在于:用于打印立體拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的方式如下:
打印不同尺寸納米線:納米線的尺寸包括直徑和高度,通用噴頭的每個(gè)噴嘴獨(dú)立工作,通過(guò)調(diào)整打印參數(shù),得到不同尺寸納米線;或?qū)S脟婎^一個(gè)圖形單元的噴嘴同時(shí)工作,該陣列單元中的每根納米線尺寸可控;
打印傾斜、彎曲、螺旋狀納米線陣列:噴墨打印時(shí),沿x或y軸其中一個(gè)方向按固定速度移動(dòng)位移臺(tái),得到傾斜一定角度的納米線,沿x軸正方向移動(dòng),則納米線向x軸負(fù)方向傾斜;沿x軸負(fù)方向移動(dòng),則納米線向x軸正方向傾斜;沿y軸正方向移動(dòng),則納米線向y軸負(fù)方向傾斜;沿y軸負(fù)方向移動(dòng),則納米線向y軸正方向傾斜;位移臺(tái)沿x或y軸正負(fù)方向循環(huán)移動(dòng),得到彎曲納米線,沿x軸正負(fù)方向左右移動(dòng)位移臺(tái),則納米線在xoz平面內(nèi)彎曲;沿y軸正負(fù)方向左右移動(dòng)位移臺(tái),則納米線在yoz平面內(nèi)彎曲;位移臺(tái)沿x、y軸正負(fù)共四個(gè)方向間隔移動(dòng),則得到螺旋狀納米線,位移臺(tái)分別沿x軸正方向、y軸正方向、x軸負(fù)方向、y軸負(fù)方向循環(huán)移動(dòng),得到的納米線,俯視圖成逆時(shí)針螺旋向上;
打印異質(zhì)結(jié)構(gòu)納米線陣列:裝有某種成分油墨的噴嘴打印一段時(shí)間,形成長(zhǎng)度L1的納米線;移動(dòng)襯底,裝有另一種成分油墨的噴嘴在現(xiàn)有納米線上方繼續(xù)打印,形成長(zhǎng)度L2的納米線,由此形成總長(zhǎng)度L=L1+L2的納米線;多個(gè)噴嘴同時(shí)工作,形成異質(zhì)結(jié)納米線陣列單元;
打印不同材料組成的陣列單元:每個(gè)噴嘴均有獨(dú)立供墨墨盒,在不同墨盒中灌裝不同成分油墨,同時(shí)控制每個(gè)噴嘴工作時(shí)間,實(shí)現(xiàn)陣列單元中納米結(jié)構(gòu)的材料、尺寸參數(shù)的多樣化,達(dá)到更多功能;
打印超細(xì)立體金屬納米線陣列:打印立體納米線陣列;打印結(jié)束后對(duì)樣品進(jìn)行兩輪后處理,焊接金屬納米顆粒并去除聚合物基材,處理后的納米線尺寸更小;用這種方法制備最小單元尺寸在10nm-100nm的納米點(diǎn)陣、納米線陣、三維復(fù)雜納米陣列;
打印功能圖案:?jiǎn)未未蛴〉玫接赡c(diǎn)組成的圖形;墨點(diǎn)材料作為催化劑,在帶有墨點(diǎn)陣列的襯底上繼續(xù)用化學(xué)氣相沉積法進(jìn)行外延生長(zhǎng),得到納米結(jié)構(gòu)陣列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法,其特征在于:噴墨打印得到的納米線直徑最小即為墨點(diǎn)尺寸,為100nm-100μm;噴嘴間距d,1mm≤d≤100mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法,其特征在于:其特征在于:所述油墨的材料為金納米顆粒、銀納米顆粒、銅納米顆粒、鋁納米顆粒、鉑納米顆粒、石墨烯、硫化鉬、碳納米管、半導(dǎo)體納米顆粒或量子點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三維超材料陣列的大規(guī)模噴墨打印方法,其特征在于:所述襯底為金屬板、硅片、藍(lán)寶石玻璃片、石英玻璃片、紙張、PET或PEN。
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B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
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