[發明專利]一種兩相復合納米涂層

在審

• 申請號: 201710125513.9
• 申請日: 2017-03-04
• 公開（公告）號: CN107227440A
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: 劉和勇
• 申請（專利權）人: 安徽智聯投資集團有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/34;B82Y40/00
• 代理公司: 深圳茂達智聯知識產權代理事務所(普通合伙)44394
• 代理人: 胡慧

1.一種兩相復合納米涂層，其特征在于：所述兩相分別為金屬相和陶瓷相，陶瓷相為納米結構，金屬相包圍在陶瓷相納米周圍，形成網絡結構。

2.根據權利要求1所述的一種兩相復合納米涂層，其特征在于：所述陶瓷相為納米TiC或TiN；所述金屬相為Ti、Cu、或Ni。

3.根據權利要求1或2一種兩相復合納米涂層，其特征在于：采用多靶位、靶材基座能旋轉選擇工作靶材的濺射設備；包括如下步驟：

1）將襯底分別在丙酮和乙醇中各超聲清洗20min，烘干；

2）將襯底固定于濺射設備的樣品架上置于濺射靶前，安裝靶材在靶位上，靶材包括金屬靶及合金靶，分別安裝在靶座的在不同的靶位上；靶基距為16cm；腔體溫度加熱至300℃，抽真空至4.0×10^-3Pa以下，通入氣壓為1.0Pa的Ar氣，基體偏壓-350V，對襯底進行輝光刻蝕25min；

3）開啟高功率脈沖電源，通入Ar氣20sccm，保持腔體氣壓0.35Pa，調整偏壓-50--300V，頻率為350kHz，旋轉靶座，靶座旋轉速率為2r/min，使得金屬靶及合金靶輪流在濺射位；采用脈沖濺射，脈沖電壓700V，脈寬180μs，頻率100Hz，靶功率850W；沉積時間為100-150min，膜層厚度800-1000nm。

4.根據權利要求3一種兩相復合納米涂層，其特征在于：所述金屬靶為Ti、Cu、或Ni靶。

5.根據權利要求3一種兩相復合納米涂層，其特征在于：所述合金靶為TiC或TiN靶。