[發(fā)明專(zhuān)利]量子點(diǎn)薄膜及其制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710123637.3
• 申請(qǐng)日: 2017-03-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107817539A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐世杰;呂英宗;吳憲宗;李宛珊
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 迎輝科技股份有限公司;原像科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B1/14
• 分類(lèi)號(hào): G02B1/14;G02F1/13357
• 代理公司: 北京泰吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11355
• 代理人: 史瞳,謝瓊慧

1.一種量子點(diǎn)薄膜，包含：一個(gè)基材，其特征在于，該量子點(diǎn)薄膜還包含一個(gè)位于該基材上的阻水層，以及一個(gè)位于該阻水層上方的作用層，該阻水層具有阻隔水氣的功能，并且由有機(jī)材料與無(wú)機(jī)材料混合形成，該作用層包括一個(gè)主體，以及數(shù)個(gè)摻混于該主體中的量子點(diǎn)。

2.如權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)薄膜，其特征在于：該阻水層的有機(jī)材料為六甲基二硅氧烷，該無(wú)機(jī)材料為金屬氮化物、金屬氧化物或金屬氮氧化物。

3.如權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)薄膜，其特征在于：該基材材料為聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯。

4.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的量子點(diǎn)薄膜，其特征在于：該阻水層的厚度為5nm～200nm。

5.如權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)薄膜，其特征在于：該量子點(diǎn)薄膜還包含一層位于該阻水層與該作用層間的結(jié)合層，該結(jié)合層為有機(jī)材料。

6.一種量子點(diǎn)薄膜的制造方法，包含：提供一個(gè)基材，其特征在于，該量子點(diǎn)薄膜的制造方法還包含：將有機(jī)材料與無(wú)機(jī)材料混合在一起，并利用濺鍍方式披覆形成于該基材上，以在該基材上形成一個(gè)阻水層，后續(xù)形成一個(gè)具有數(shù)個(gè)量子點(diǎn)的作用層。

7.如權(quán)利要求6所述的量子點(diǎn)薄膜的制造方法，其特征在于：該阻水層的有機(jī)材料為六甲基二硅氧烷，該無(wú)機(jī)材料為金屬氮化物、金屬氧化物或金屬氮氧化物。

8.如權(quán)利要求6所述的量子點(diǎn)薄膜的制造方法，其特征在于：該基材材料為聚乙烯對(duì)苯二甲酸酯。

9.如權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的量子點(diǎn)薄膜的制造方法，其特征在于：該阻水層的厚度為5nm～200nm。

10.如權(quán)利要求6所述的量子點(diǎn)薄膜的制造方法，其特征在于：在形成該作用層前，先在該阻水層上形成一層結(jié)合層，該結(jié)合層為有機(jī)材料。