[發(fā)明專利]氣體產(chǎn)生器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710123059.3
• 申請日: 2017-03-03
• 公開（公告）號: CN108531929B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林信涌
• 申請（專利權(quán)）人: 林信涌
• 主分類號: C25B1/044
• 分類號: C25B1/044;C25B9/19;C25B15/02;A61M15/00
• 代理公司: 北京天平專利商標(biāo)代理有限公司 11239
• 代理人: 孫剛

1.一種氣體產(chǎn)生器，其特征在于包含有：

一電解槽容置有包含一電解質(zhì)的一電解水，該電解槽用以電解該電解水以產(chǎn)生一氫氧混合氣體；

一混合反應(yīng)室連接該電解槽，用以接收該氫氧混合氣體，及用以接收一霧化氣體并將該霧化氣體與該氫氧混合氣體混合形成一保健氣體；

一直立管，從該混合反應(yīng)室垂直向上延伸；

兩突出部，從該混合反應(yīng)室之側(cè)面朝側(cè)向延伸；

一盤狀結(jié)構(gòu)設(shè)置并環(huán)繞該直立管的外緣；

一霧化室耦接該混合反應(yīng)室，用以產(chǎn)生該霧化氣體后送至該混合反應(yīng)室；以及

一阻火器設(shè)置于該霧化氣體、該氫氧混合氣體或該保健氣體流經(jīng)處；

其中，該混合反應(yīng)室的最大孔徑小于該霧化室的最大孔徑；

其中，該混合反應(yīng)室的容量小于該霧化室的容量。

2.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，進(jìn)一步包含一防靜電裝置設(shè)置于該氣體產(chǎn)生器內(nèi)，用以減少或消除該氣體產(chǎn)生器中的靜電。

3.如權(quán)利要求2所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該防靜電裝置以一體成型方式形成于該氣體產(chǎn)生器內(nèi)。

4.如權(quán)利要求2所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該防靜電裝置具有一導(dǎo)電端，容置于該混合反應(yīng)室內(nèi)。

5.如權(quán)利要求2所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該混合反應(yīng)室具有一內(nèi)壁，用以容置該氫氧混合氣體、該霧化氣體或該保健氣體，該內(nèi)壁由該防靜電裝置所構(gòu)成。

6.如權(quán)利要求2所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該防靜電裝置設(shè)置于該霧化氣體、該氫氧混合氣體或該保健氣體流經(jīng)處。

7.如權(quán)利要求6所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該防靜電裝置垂直于流經(jīng)該防靜電裝置的該霧化氣體、該氫氧混合氣體或該保健氣體的流動方向。

8.如權(quán)利要求2所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該防靜電裝置以可替換方式設(shè)置于該氣體產(chǎn)生器內(nèi)。

9.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該混合反應(yīng)室及該霧化室以一體成型方式一并形成。

10.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該混合反應(yīng)室及該霧化室以射出成型方式一并形成。

11.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，進(jìn)一步包含一容置殼體用以容置該霧化室及部分的該混合反應(yīng)室，該阻火器設(shè)置于該容置殼體中并耦接該混合反應(yīng)室的該氫氧混合氣體的入口處。

12.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該混合反應(yīng)室及該霧化室以螺旋鎖合方式結(jié)合。

13.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該混合反應(yīng)室、該直立管以及該霧化室互相連通。

14.如權(quán)利要求1所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該氣體產(chǎn)生器另包含一容置殼體用以容置該混合反應(yīng)室，該容置殼體包含一側(cè)壁與一上壁，該混合反應(yīng)室另具有向外延伸之一凸緣以嵌合于該容置殼體之該上壁。

15.如權(quán)利要求14所述的氣體產(chǎn)生器，其特征在于，該氣體產(chǎn)生器另包含一上蓋設(shè)置于該容置殼體與該混合反應(yīng)室之上。