[發明專利]陣列基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201710121291.3
• 申請日: 2017-03-02
• 公開（公告）號: CN106842747B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 安赫宇;封賓;史秋飛;于嘉鑫
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

1.一種陣列基板，其特征在于，包括：

襯底基板；

所述襯底基板上設置有柵極圖形、絕緣層和源漏極圖形，所述絕緣層位于所述柵極圖形和所述源漏極圖形之間，所述柵極圖形包括多個平行的數據線，所述源漏極圖形包括至少兩個平行的短路線；

任一所述數據線與任一所述短路線交叉設置，每個所述數據線與一個所述短路線對應連接，且所述多個平行的數據線與所述至少兩個平行的短路線中不同的短路線電連接；其中，所述多個平行的數據線均為抗靜電數據線，所述抗靜電數據線的交叉區域上具有斷口，所述抗靜電數據線上的所述斷口的兩端分別與所述抗靜電數據線對應的短路線電連接，所述交叉區域為所述對應的短路線在所述數據線上的正投影重疊區域。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述多個平行的數據線包括第一數據線和第二數據線，所述至少兩個平行的短路線包括第一短路線和第二短路線，所述第一數據線與所述第一短路線電連接，所述第二數據線與所述第二短路線電連接。

3.根據權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，

所述第一數據線和所述第二數據線沿所述短路線的延伸方向依次交錯設置。

4.根據權利要求2或3所述的陣列基板，其特征在于，所述源漏極圖形位于所述柵極圖形上方；

所述源漏極圖形上還設置有鈍化層；

其中，所述鈍化層上設置有與所述源漏極圖形連接的第一過孔，所述絕緣層上設置有與所述柵極圖形連接的第二過孔，所述第一過孔位于所述交叉區域上方，所述第二過孔位于所述交叉區域以外；

所述鈍化層和所述絕緣層上設置有導電材料層，所述導電材料層包括位于所述第一過孔和所述第二過孔內的部分，以及位于所述第一過孔和所述第二過孔之間的部分。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，

所述鈍化層和所述絕緣層上還設置有公共電極，所述公共電極和所述導電材料層同層設置。

6.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，所述抗靜電數據線上的所述斷口的兩端分別設置4個過孔，所述4個過孔包括沿遠離所述斷口方向依次排布的2個第一過孔和2個第二過孔。

7.根據權利要求1、2、3、5或6所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板滿足以下一種或多種條件：

所述短路線的寬度為58微米；

所述數據線的寬度為17μm；

所述過孔為5.5μm×8μm的橢圓。

8.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供襯底基板；

在所述襯底基板上形成柵極圖形、絕緣層和源漏極圖形，所述絕緣層位于所述柵極圖形和所述源漏極圖形之間，所述柵極圖形包括多個平行的數據線，所述源漏極圖形包括至少兩個平行的短路線；

任一所述數據線與任一所述短路線交叉設置，每個所述數據線與一個所述短路線對應連接，且所述多個平行的數據線與所述至少兩個平行的短路線中不同的短路線電連接；

其中，所述多個平行的數據線均為抗靜電數據線，所述抗靜電數據線的交叉區域上具有斷口，所述抗靜電數據線上的所述斷口的兩端分別與所述抗靜電數據線對應的短路線電連接，所述交叉區域為所述對應的短路線在所述數據線上的正投影重疊區域。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，

所述多個平行的數據線包括第一數據線和第二數據線，所述至少兩個平行的短路線包括第一短路線和第二短路線，所述第一數據線與所述第一短路線電連接，所述第二數據線與所述第二短路線電連接。