[發(fā)明專利]終點(diǎn)檢測(cè)的蝕刻計(jì)量靈敏度

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710121052.8
• 申請(qǐng)日: 2017-03-02
• 公開（公告）號(hào): CN107403736B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德魯·D·貝利三世;穆罕默德·德里亞·特泰克;鄧肯·W·米爾斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 朗姆研究公司
• 主分類號(hào): H01L21/60
• 分類號(hào): H01L21/60;G06F17/18;G06N3/02
• 代理公司: 上海勝康律師事務(wù)所 31263
• 代理人: 樊英如;張華

1.一種產(chǎn)生計(jì)算模型的方法，所述計(jì)算模型將由光能與在襯底上蝕刻的特征相互作用而產(chǎn)生的測(cè)得的光信號(hào)與在所述襯底上蝕刻的所述特征的目標(biāo)幾何參數(shù)的值相關(guān)聯(lián)，所述方法包括：

確定用于所述計(jì)算模型的所述測(cè)得的光信號(hào)的范圍，其中確定所述范圍包括：

識(shí)別由于非目標(biāo)幾何參數(shù)的值的變化而在所述范圍內(nèi)的所述測(cè)得的光信號(hào)的第一變化，

識(shí)別由于所述目標(biāo)幾何參數(shù)的值的變化而在所述范圍內(nèi)的所測(cè)得的光信號(hào)的第二變化，并且

確定所述第二變化大于所述第一變化；

提供具有有在所述范圍內(nèi)的所述光信號(hào)的值的成員的訓(xùn)練集，其中所述訓(xùn)練集中的每個(gè)成員包括：(i)在所述襯底中蝕刻的所述特征的所述目標(biāo)幾何參數(shù)的值，以及(ii)從蝕刻的特征產(chǎn)生的具有在所述襯底中蝕刻的所述特征的所述目標(biāo)幾何參數(shù)的所述值的相關(guān)聯(lián)的光信號(hào)；以及

從所述訓(xùn)練集產(chǎn)生所述計(jì)算模型。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述訓(xùn)練集的所述成員還包括在所述襯底中蝕刻的所述特征的非目標(biāo)幾何參數(shù)的值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述訓(xùn)練集的所述成員是通過實(shí)驗(yàn)獲得的。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述訓(xùn)練集的所述成員是通過計(jì)算生成的。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中所述訓(xùn)練集的所述成員從表面動(dòng)力學(xué)模型并根據(jù)光學(xué)建模例程生成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述訓(xùn)練集包括至少50個(gè)成員。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中從所述訓(xùn)練集產(chǎn)生所述計(jì)算模型包括使用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)或回歸技術(shù)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，蝕刻在所述襯底上的所述特征的所述目標(biāo)幾何參數(shù)是蝕刻深度、間距或蝕刻關(guān)鍵尺寸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光信號(hào)包括從蝕刻在所述襯底上的所述特征產(chǎn)生的反射率值。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，使得所述測(cè)得的光信號(hào)與非目標(biāo)幾何參數(shù)相關(guān)聯(lián)相比于與所述目標(biāo)幾何參數(shù)相關(guān)聯(lián)較不強(qiáng)的所述范圍是波長(zhǎng)范圍。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中確定所述范圍包括針對(duì)所述目標(biāo)幾何參數(shù)的不同值，根據(jù)所述光信號(hào)與所述目標(biāo)幾何參數(shù)的相關(guān)性的變化來確定所述范圍的變化。

12.一種計(jì)算模型，其被配置為根據(jù)測(cè)得的由光能與蝕刻在襯底上的特征相互作用而產(chǎn)生的光信號(hào)計(jì)算在所述襯底上蝕刻的所述特征的目標(biāo)幾何參數(shù)的值，其中所述計(jì)算模型根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法生成。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算模型，其中用于生成所述計(jì)算模型的所述訓(xùn)練集的所述成員還包括在所述襯底中蝕刻的所述特征的非目標(biāo)幾何參數(shù)的值。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算模型，其中用于生成所述計(jì)算模型的所述訓(xùn)練集的所述成員是通過實(shí)驗(yàn)獲得的。

15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算模型，其中用于生成所述計(jì)算模型的所述訓(xùn)練集的所述成員是通過計(jì)算生成的。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的計(jì)算模型，其中所述訓(xùn)練集的所述成員是從表面動(dòng)力學(xué)模型并根據(jù)光學(xué)建模例程生成的。

17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算模型，其中所述訓(xùn)練集包括至少50個(gè)成員。

18.根據(jù)權(quán)利要求12所述的計(jì)算模型，其中所述計(jì)算模型是使用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)或回歸技術(shù)從所述訓(xùn)練集生成的。