[發明專利]發光元件在審
| 申請號: | 201710121015.7 | 申請日: | 2017-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN108533981A | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發明(設計)人: | 沈佳輝;洪梓健;彭建忠;黃建翔;劉芝蓉 | 申請(專利權)人: | 展晶科技(深圳)有限公司;榮創能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | F21K9/68 | 分類號: | F21K9/68;F21V7/04;F21V7/10;G02F1/13357;F21Y115/10 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板 晶粒 反光部 發光元件 投影 | ||
一種發光元件,包括基板和晶粒,所述晶粒設置于所述基板的表面,所述晶粒在基板的表面的投影位于所述基板的表面內。該發光元件還包括反光部,所述反光部設置于所述基板的表面,所述反光部在基板的表面的投影位于所述基板的表面內,所述反光部圍繞所述晶粒,所述反光部的高度小于所述晶粒的高度。
技術領域
本發明涉及一種發光元件。
背景技術
在現有技術中,經常采用發光二極管作為光源廣泛應用于顯示領域。顯示器件通常包括復數個陣列排列的發光元件,每一發光元件至少包括晶粒和基板。所述晶粒設置于基板之上,且通常與基板大小相同,在生產過程中,大尺寸的晶粒需要消耗更多的原料,造成了顯示器整體成本過高,在應用中,大尺寸的晶粒需要消耗更多的電能。因此,在本領域中,通常采用將晶粒的尺寸設計為小于基板的尺寸的方法來控制成本和減少耗能。但是,由于將晶粒的尺寸設計為小于基板的尺寸將導致一部分光線由晶粒側面出射,從而降低了正向出光強度,同時增加了眩光現象的產生。因此,如何增加正向出光強度、減少眩光現象的產生是目前亟待解決的問題。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種發光元件以解決如何增加正向出光強度、減少眩光現象的產生的技術問題。
一種發光元件,包括基板和晶粒,所述晶粒設置于所述基板的表面,所述晶粒在基板的表面的投影位于所述基板的表面內,還包括反光部,所述反光部設置于所述基板的表面,所述反光部在基板的表面的投影位于所述基板的表面內,所述反光部圍繞所述晶粒,所述反光部的高度小于所述晶粒的高度。
進一步的,所述晶粒的邊長小于50微米。
進一步的,所述反光部的高度小于20微米。
進一步的,所述反光部為環狀。
進一步的,所述反光部為復數個柱狀物。
進一步的,每個所述柱狀物的底面積小于晶粒底面積的50%。
進一步的,所述復數個柱狀物之間存在間隙。
進一步的,所述發光元件還包括阻擋部,所述阻擋部位于基板上,并圍繞所述反光部。
進一步的,所述阻擋部與所述反光部之間存在空隙。
本發明所提供的發光元件,通過提供反光部,將反光部設置于所述基板的表面,并且使反光部在基板的表面的投影位于所述基板的表面內,再通過反光部圍繞設置在晶粒周圍,且反光部的高度小于晶粒的高度,以使得由晶粒側面出射的光線得以被反光部反射,不僅增加了所述發光元件的正向出光強度,同時減少了眩光現象的產生。
附圖說明
圖1為本發明所提供的發光元件的剖視圖。
圖2為本發明所提供的發光元件的第一種實施方式的俯視圖。
圖3為本發明所提供的發光元件的第二種實施方式的俯視圖。
圖4為本發明所提供的發光元件的第三種實施方式的俯視圖。
圖5為本發明所提供的發光元件的第四種實施方式的剖視圖。
圖6為本發明所提供的發光元件的第四種實施方式的俯視圖。
主要元件符號說明
如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。
具體實施方式
下面將結合本發明實施方式中的附圖,對本發明實施方式中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施方式僅僅是本發明一部分實施方式,而不是全部的實施方式。
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