[發(fā)明專利]一種顯示基板、顯示基板的制作方法以及顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710120773.7 | 申請日: | 2017-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN106816557A | 公開(公告)日: | 2017-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 龐佳威;徐苗;王磊;鄒建華;陶洪 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州新視界光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司11332 | 代理人: | 孟金喆,胡彬 |
| 地址: | 510700 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 制作方法 以及 面板 | ||
1.一種顯示基板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底上依次形成開關(guān)器件層和第一電極層;
形成圖形化像素定義層以及位于所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層,所述圖形化像素定義層定義出多個子像素區(qū)域;
依次在所述多個子像素區(qū)域內(nèi)形成有機發(fā)光層和第二電極層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,形成圖形化像素定義層以及位于所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層,包括:
在所述開關(guān)器件層和所述第一電極層上形成像素定義層;
在所述像素定義層上形成疏水材料層;
在所述疏水材料層遠離所述像素定義層的一側(cè)進行曝光處理;
對所述像素定義層進行顯影,以去除部分所述像素定義層以及位于所述部分像素定義層上的疏水材料層,獲得所述圖形化像素定義層以及所述圖形化疏水材料層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,采用旋轉(zhuǎn)式涂布或狹縫式涂布的方式將所述疏水材料層形成于所述像素定義層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述圖形化疏水材料層的厚度取值范圍為0.1nm至20nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述圖形化像素定義層的厚度取值范圍為1μm至5μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述圖形化疏水材料層的材料包括含氟聚合物。
7.一種顯示基板,其特征在于,包括:
襯底;
形成在所述襯底上的開關(guān)器件層;
形成在所述開關(guān)器件層上的第一電極層;
形成在所述第一電極層上的圖形化像素定義層,所述圖形化像素定義層限定出多個子像素區(qū)域;
形成在所述圖形化像素定義層上的圖形化疏水材料層;
以及,形成在所述多個子像素區(qū)域內(nèi)的有機發(fā)光層和第二電極層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板,其特征在于,所述圖形化疏水材料層的厚度取值范圍為0.1nm至20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板,其特征在于,所述圖形化疏水材料層的材料包括含氟聚合物。
10.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求7-9任一項所述的顯示基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





