[發(fā)明專利]質(zhì)譜基片及制備方法與用途有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710118754.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106872562B | 公開(公告)日: | 2018-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁飛;馬慶偉;陳蓮蓮;付書輝;梁坤;向華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京毅新博創(chuàng)生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N27/64 | 分類號(hào): | G01N27/64;G01N1/28;G01N33/68;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 102206 北京市昌平區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 質(zhì)譜基片 制備 方法 用途 | ||
1.一種用于MALDI‐TOF檢測(cè)的微納米結(jié)構(gòu)基片的制備方法,包括:
(1)選用質(zhì)地堅(jiān)韌、平面度佳的基片作為基底;
(2)用硅烷偶聯(lián)劑處理基片:
(i)清洗基片:將基片先后浸入丙酮、甲醇水溶液、氯仿,分別清洗后,取出干燥;
(ii)在加熱條件下,將濃酸和雙氧水緩慢加入含有基片的水溶液中,進(jìn)行充分氧化反應(yīng)后,分別在氯仿、超純水中進(jìn)行多次清洗;
(iii)將基片置于干凈容器中,加入預(yù)先水解的硅烷偶聯(lián)劑溶液,并加入氨水催化,直至硅烷化反應(yīng)充分完成;
(iv)取出基片,分別置于乙醇、超純水、氯仿中,超聲清洗;
(v)將清洗后的基片,測(cè)量并選擇接觸角>120°的基片,作為合格基片;
(3)點(diǎn)樣區(qū)的親水性處理:將調(diào)制后的酸性試劑直接滴在點(diǎn)樣區(qū)內(nèi),通過(guò)該酸性試劑對(duì)表面進(jìn)行化學(xué)修飾后,形成親水性孔狀結(jié)構(gòu),然后超聲清洗,最終獲得微納米結(jié)構(gòu)基片;
其中,
步驟(1)所述基片是質(zhì)地堅(jiān)韌、平面度佳的不銹鋼、金剛石、單晶硅、石英晶體的基片;
步驟(2)所述硅烷偶聯(lián)劑選自乙烯基硅烷、氨基硅烷、二甲基二氯硅烷;
步驟(3)所述酸性試劑選自氫氟酸、硫酸、溴化氫。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中方法包括:
步驟(4)激光刻印二維碼,該二維碼通過(guò)與病人的生物信息或樣品的來(lái)源信息關(guān)聯(lián),可用于識(shí)別基片對(duì)應(yīng)的信息。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中所述基片是單面拋光的硅基片或石英基片;所述接觸角>150°,以形成超疏水表面,或者所述疏水表面的厚度在納米到微米量級(jí)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中點(diǎn)樣區(qū)被劃隔成適合MALDI‐TOF樣品室規(guī)格的長(zhǎng)方形,劃隔精度小于10μm;并通過(guò)光刻掩膜版,在基片表面形成親疏水區(qū)域,并將邊界精度達(dá)到微米級(jí)別。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法,其中在進(jìn)行質(zhì)譜檢測(cè)時(shí),可用讀碼器或掃碼器 讀取二維碼,并將基片對(duì)應(yīng)的病人生物信息或樣品的來(lái)源信息以及對(duì)應(yīng)的質(zhì)譜數(shù)據(jù)同時(shí)輸入電腦進(jìn)行編碼、存儲(chǔ)和識(shí)別。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中所述基片上的親水點(diǎn)樣區(qū)數(shù)量為48、56、70、96、384,親水區(qū)形狀選自圓形,正方形,三角形或多邊形。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中所述親水區(qū)域尺寸范圍為100×100μm至1×1mm,所述基片尺寸為20×30‐83×125mm。
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