[發(fā)明專利]沉積裝置及沉積方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710116613.5 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN107287576A | 公開(公告)日: | 2017-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林鐘熙;金圭范;金兌龍;樸宰奭;樸鎮(zhèn)翰 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11204 | 代理人: | 王達佐,劉錚 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 沉積 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及沉積裝置和沉積方法。
背景技術(shù)
最近,具有低電耗、高亮度以及快速的響應(yīng)速度的有機發(fā)光顯示裝置(Organic Light Emitting Diode Display;OLED)作為下一代平板顯示裝置而備受矚目。
通常,有機發(fā)光顯示裝置包括自發(fā)光的自發(fā)光型有機發(fā)光元件,并且由于不需要額外的光源而可制造為輕量型和薄型。
作為在這種有機發(fā)光元件上形成有機物薄膜的沉積裝置,主要使用真空熱沉積裝置(Thermal evaporation apparatus)。
真空熱沉積裝置由在高真空狀態(tài)下進行沉積的多個真空腔構(gòu)成。在沉積裝置的真空腔內(nèi)部,在襯底固定至載體(carrier)上并在坩堝的上方移動的期間對襯底實施有機物沉積。
發(fā)明內(nèi)容
對于這種載體,將載體取出到沉積裝置的外部,并通過作業(yè)人員手動更換防沉積部件或去除靜電卡盤的顆粒(particle)等來進行維護(maintenance)。
然而,隨著襯底的尺寸由于最近技術(shù)的發(fā)展而增加,傳送襯底的載體也變得大型且高荷重。
因此,為在沉積工藝線上對大型化載體進行維護而將高荷重的載體取出到沉積裝置的外部的操作會導(dǎo)致作業(yè)人員的安全問題以及作業(yè)的低效率。
本發(fā)明要解決的問題在于,提供如下沉積裝置及沉積方法,即,通過在沉積裝置的內(nèi)部布置維護單元(maintenance unit)而在流程(process)中對變得大型化的載體進行維護。
本發(fā)明的問題不限于以上所提及的技術(shù)問題,并且本領(lǐng)域技術(shù)人員將通過以下記載清楚地理解未提及的其它技術(shù)問題。
為實現(xiàn)上述問題的根據(jù)本發(fā)明一實施方式的沉積裝置包括對襯底執(zhí)行沉積工藝的沉積單元、包括固定所述襯底的載體和傳送所述載體傳送部件的傳送單元、布置成與所述沉積單元相鄰并且對所述載體執(zhí)行維修的維護單元,并且所述傳送部件可包括維護傳送部件,該維護傳送部件布置于所述沉積單元與所述維護單元之間使得將所述載體從所述沉積單元傳送至所述維護單元的維護傳送部件。
所述沉積單元可包括沉積腔、布置于所述沉積腔內(nèi)并且向所述襯底提供沉積物質(zhì)的沉積組件、布置于所述沉積腔的下方并且連接至所述維護單元的返回腔、布置于所述沉積腔和所述返回腔的一側(cè)的襯底供給腔、以及布置于所述沉積腔和所述返回腔的另一側(cè)的襯底回收腔。
所述傳送部件還可包括布置于所述沉積腔內(nèi)的第一傳送部件以及布置于所述返回腔內(nèi)的第二傳送部件,并且所述維護傳送部件可從所述第二傳送部件分支出并且可布置于所述返回腔與所述維護單元之間。
所述載體可包括本體部、布置于所述本體部的一個表面上并且將所述襯底固定至所述本體部上的靜電卡盤、布置于所述本體部的一個表面上并且將防沉積部件結(jié)合至所述本體部上的至少一個第一結(jié)合部件、以及布置于所述本體部的外側(cè)并且使所述本體部隨著所述傳送部件移動的凸輪從動件。
所述傳送部件可包括支承所述凸輪從動件的表面的至少一個支承面、以及引導(dǎo)所述凸輪從動件的側(cè)面的引導(dǎo)面。
所述維護單元可包括對所述載體執(zhí)行維修的載體維護部、以及更換結(jié)合至所述載體上的防沉積部件的防沉積部件維護部。
所述載體維護部可包括積載并固定有所述載體的載體積載部、布置于所述載體積載部的兩側(cè)側(cè)壁上并且去除附著至所述載體的顆粒的顆粒去除部、以及向所述載體供給潤滑油的注油部。
所述載體積載部還可包括形成于所述側(cè)壁中以供所述顆粒去除部能夠出入的中孔。
所述載體積載部可形成為多層以堆疊多個所述載體。
所述防沉積部件維護部可包括供額外的所述防沉積部件堆疊為多層的防沉積部件積載部、以及執(zhí)行所述防沉積部件從所述載體的更換的防沉積部件更換部,并且所述防沉積部件更換部可布置于所述載體積載部與所述防沉積部件積載部之間。
所述裝置還可包括確認是否維修所述載體的控制部,并且所述控制部可分別與所述沉積單元、所述傳送單元以及所述維護單元連接,并且可分別控制所述沉積單元、所述傳送單元以及所述維護單元的驅(qū)動以使得所述維護單元對所述載體執(zhí)行維修。
為解決上述問題的根據(jù)本發(fā)明另一實施方式的沉積裝置可包括:包括對襯底執(zhí)行沉積工藝的工藝腔的沉積單元、包括傳送所述襯底的載體的傳送單元、布置于所述工藝腔的一側(cè)并且包括對所述載體執(zhí)行維修的維護腔的維護單元、布置于所述工藝腔與所述維護腔之間的轉(zhuǎn)換腔以及連接至所述工藝腔和所述轉(zhuǎn)換腔的第一連接部和連接至所述轉(zhuǎn)換腔和所述維護腔的第二連接部。
所述工藝腔可配置成真空腔,并且所述維護腔可配置成常壓腔。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





