[發(fā)明專(zhuān)利]一種吸附桿、真空貼合設(shè)備以及真空貼合設(shè)備的控制方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710115486.7
• 申請(qǐng)日: 2017-02-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106842645B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 侯本象;唐大虎;謝軍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02F1/13
• 分類(lèi)號(hào): G02F1/13
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本發(fā)明實(shí)施例提供一種吸附桿、真空貼合設(shè)備以及真空貼合設(shè)備的控制方法，涉及顯示面板制造技術(shù)領(lǐng)域，能夠解決真空貼合設(shè)備中吸附桿無(wú)法調(diào)整自身長(zhǎng)度的問(wèn)題。包括電磁組件，電磁組件包括滑桿，以及設(shè)置在滑桿上的固定線圈和活動(dòng)部，固定線圈纏繞在滑桿外周，活動(dòng)部包括彈性元件和活動(dòng)磁鐵，彈性元件的固定端與滑桿固定連接、活動(dòng)端連接活動(dòng)磁鐵。吸附件，固定連接活動(dòng)磁鐵，且露出于活動(dòng)磁鐵遠(yuǎn)離固定線圈的一端。其中，固定線圈通入電流產(chǎn)生磁場(chǎng)，以使得活動(dòng)磁鐵在與磁場(chǎng)的排斥力作用下在滑桿上滑動(dòng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示面板制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種吸附桿、真空貼合設(shè)備以及真空貼合設(shè)備的控制方法。

背景技術(shù)

在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器)制造行業(yè)中的真空貼合工藝是指，在密閉的真空環(huán)境下，通過(guò)真空貼合設(shè)備(Vacuum Aligner System，簡(jiǎn)稱(chēng)VAS)中的上基臺(tái)和下基臺(tái)分別吸附彩膜基板和陣列基板，通過(guò)上基臺(tái)和下基臺(tái)之間的相對(duì)移動(dòng)，將彩膜基板和陣列基板對(duì)位貼合以形成液晶面板。

如圖1所示，現(xiàn)有的真空貼合設(shè)備通常包括相互對(duì)合設(shè)置的上腔室10和下腔室20，上腔室10和下腔室20的邊緣能夠相互對(duì)接壓合以形成密閉空間，在上腔室10內(nèi)設(shè)置有上基臺(tái)11，上基臺(tái)11上設(shè)置有吸附桿12，吸附桿12一端穿過(guò)上基臺(tái)11向下伸出，用于吸附待壓合彩膜基板13并將待壓合彩膜基板13固定在上基臺(tái)11的下表面，在下腔室20內(nèi)設(shè)置有下基臺(tái)21，下基臺(tái)21上設(shè)置有支撐桿22，支撐桿22用于支撐待壓合陣列基板23并將待壓合陣列基板23固定在下基臺(tái)21的上表面上。

其中，如圖2所示，現(xiàn)有的吸附桿12由驅(qū)動(dòng)桿體121和通過(guò)螺絲122與驅(qū)動(dòng)桿體121固定連接的吸附端123組成。吸附端123通常為喇叭口設(shè)計(jì)，在吸附固定待壓合彩膜基板13時(shí)，通過(guò)排除喇叭口內(nèi)的空氣形成真空空腔對(duì)待壓合彩膜基板13真空吸附。然后，在上腔室10與下腔室20之間對(duì)合形成真空密閉空間后，上基臺(tái)11在驅(qū)動(dòng)作用下向下基臺(tái)21運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)待壓合彩膜基板13靠近待壓合陣列基板23直至與待壓合陣列基板23壓合成形。

隨著液晶面板對(duì)PPI(Pixels Per Inch，像素密度)的要求越來(lái)越高，也就要求彩膜基板和陣列基板在真空貼合時(shí)的精度越高。而真空貼合設(shè)備中待壓合彩膜基板13和待壓合陣列基板23在貼合前的平坦度對(duì)真空貼合精度的影響極大，待壓合彩膜基板13和待壓合陣列基板23的平坦度越高，才能使得真空貼合精度越高。

然而在真空貼合設(shè)備中，吸附固定于上基臺(tái)11的待壓合彩膜基板13始終存在一定的彎曲變形量，尤其是在真空貼合設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間使用后，吸附桿12由于長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)動(dòng)，多個(gè)吸附桿12之間難以保持一致性，從而就會(huì)導(dǎo)致每個(gè)吸附桿12與待壓合彩膜基板13的接觸磨損程度和吸附程度產(chǎn)生差異，進(jìn)而導(dǎo)致待壓合彩膜基板13的整體平坦度下降。這種差異難以通過(guò)肉眼觀察而發(fā)現(xiàn)，通常只有在產(chǎn)生批量次品問(wèn)題后才能確定，這就容易導(dǎo)致產(chǎn)品的次品率升高。在確定吸附桿12的長(zhǎng)度差異影響待壓合彩膜基板13的整體平坦度后，需要先使設(shè)備停機(jī)對(duì)所有吸附桿12進(jìn)行檢測(cè)和對(duì)比，然后對(duì)其中磨損嚴(yán)重、與其他吸附桿12的長(zhǎng)度差異較大的吸附桿12進(jìn)行維修或更換，再對(duì)所有吸附桿12進(jìn)行整體的調(diào)整測(cè)試后重新開(kāi)機(jī)使用，這樣一來(lái)，一方面，設(shè)備停機(jī)會(huì)嚴(yán)重影響產(chǎn)線的產(chǎn)能效率，另一方面，對(duì)設(shè)備中所有吸附桿12的檢測(cè)、對(duì)問(wèn)題吸附桿12的維修或更換，以及對(duì)維修或更換后的所有吸附桿12的再次調(diào)試均需要耗費(fèi)大量人力和工時(shí)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供一種吸附桿、真空貼合設(shè)備以及真空貼合設(shè)備的控制方法，能夠解決真空貼合設(shè)備中吸附桿無(wú)法調(diào)整自身長(zhǎng)度的問(wèn)題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：