[發(fā)明專利]具有天線結(jié)構(gòu)的印刷電路板產(chǎn)品及其生產(chǎn)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710115309.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-02-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107135616B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | E·施拉費(fèi)爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | AT&S奧地利科技與系統(tǒng)技術(shù)股份公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/46 | 分類號(hào): | H05K3/46;H05K1/02;H05K1/16;H01Q1/44;H01Q1/38 |
| 代理公司: | 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
| 地址: | 奧地利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 天線 結(jié)構(gòu) 印刷 電路板 產(chǎn)品 及其 生產(chǎn) 方法 | ||
1.一種用于生產(chǎn)具有天線結(jié)構(gòu)(5)的中間印刷電路板產(chǎn)品(80)的方法,所述方法包括下面的步驟:
a)-提供地層(10);
b)-將介質(zhì)絕緣層(30)裝接于所述地層(10)的一個(gè)外側(cè)(11)上;
c)-將導(dǎo)電層(40)與所述地層(10)對(duì)置地裝接于所述介質(zhì)絕緣層(30)的第一外側(cè)(31)上,其中所述介質(zhì)絕緣層(30)布置于所述導(dǎo)電層(40)與所述地層(10)之間;
d)-層壓所述地層(10)、至少一個(gè)介質(zhì)絕緣層(30,30’)和至少一個(gè)導(dǎo)電層(40,40’),以獲得第一半成品(50);
e)-在所述第一半成品(50)內(nèi)制作至少一個(gè)天線腔體(60),所述至少一個(gè)天線腔體(60)在所述第一半成品(50)的由所述至少一個(gè)導(dǎo)電層(40,40’)構(gòu)成的外側(cè)(51)上開(kāi)始,并且貫穿至少一個(gè)導(dǎo)電層(40)和至少一個(gè)介質(zhì)絕緣層(30)延伸,所述至少一個(gè)天線腔體(60)具有等于至少一個(gè)導(dǎo)電層高度(45)和至少一個(gè)介質(zhì)絕緣層高度(35)之和的腔體高度(65);
f)-將復(fù)合信號(hào)層(70)裝接于由所述第一半成品(50)的所述導(dǎo)電層(40)構(gòu)成的所述外側(cè)(51)上,其中所述復(fù)合信號(hào)層(70)覆蓋所述天線腔體(60);
g)-層壓所述第一半成品(50)和所述復(fù)合信號(hào)層(70),以獲得中間印刷電路板產(chǎn)品(80)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中:
在步驟a)之后,將具有釋放層形狀(25)的釋放層(20)裝接于所述地層(10)的一個(gè)外側(cè)(11)上,其中所述釋放層(20)可移除地安置于所述地層(10)的所述外側(cè)(11)的天線子區(qū)(12)上;
其中在步驟b)中,將介質(zhì)絕緣層(30)裝接于由所述釋放層(20)部分地覆蓋的地層(10)的一個(gè)外側(cè)(11)上,其中所述釋放層(20)布置于所述地層(10)與所述介質(zhì)絕緣層(30)之間;
其中在步驟d)中,還層壓所述釋放層(20);
其中在步驟e)中,腔體投影區(qū)(61)對(duì)應(yīng)于所述釋放層形狀(25),并且將所述腔體投影區(qū)(61)安置于由所述釋放層(20)覆蓋的所述天線子區(qū)(12)上,并且其中所述腔體(60)的地平面區(qū)(62)由所述釋放層(20)構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中在步驟d)之中,將層布置裝接于所述導(dǎo)電層(40)的第一外側(cè)(41)上,所述層布置包括至少一個(gè)附加介質(zhì)絕緣層(30’,30”)和至少一個(gè)附加導(dǎo)電層(40’,40”),從而將至少一個(gè)附加介質(zhì)絕緣層(30’)裝接于所述導(dǎo)電層(40)的所述第一外側(cè)(41)上,并且將至少一個(gè)附加導(dǎo)電層(40’)裝接于至少一個(gè)附加介質(zhì)絕緣層(30’,30”)的第一外側(cè)(31)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任何一項(xiàng)所述的方法,其中所述天線腔體(60)內(nèi)的側(cè)壁(67,68)覆蓋有涂層(66)。
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