[發明專利]光刻機和光刻機中吊框面型補償方法

有效

• 申請號: 201710114397.0
• 申請日: 2017-02-28
• 公開（公告）號: CN108508704B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 魏銀雷;廖飛紅;楊輔強
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻機，具有用于承載工件臺的吊框，其特征在于，在所述吊框上設置吊框面型補償單元，用于吊框面型補償；所述吊框上還設置有吊框面型形變檢測模塊；所述光刻機還設置有一閉環自動控制器，與所述吊框面型補償單元連接，用于控制所述吊框面型補償單元給予所述吊框補償力的大小。

2.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述吊框面型補償單元采用減振裝置；所述減振裝置由氣囊和直線電機構成。

3.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述吊框面型補償單元一側固定在地面上，另一側固定在所述吊框底面。

4.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述吊框面型形變檢測模塊為固定在所述吊框底面的應變片。

5.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述吊框面型形變檢測模塊為壓電片，所述吊框底面設置有槽，所述壓電片固定在所述槽內。

6.如權利要求1所述的光刻機，其特征在于，所述工件臺上還設置有位置前饋反應裝置，用于測量所述工件臺的位置。

7.一種具有如權利要求1～6中任意一項所述的光刻機中吊框面型補償方法，其特征在于，包括

步驟一：在吊框底部設置吊框面型形變檢測模塊，將工件臺沿X、Y向運動一段距離；

步驟二：記錄此時吊框面型形變檢測模塊檢測到的數據；

步驟三：移動所述工件臺，工件臺每移動一段距離，重復步驟二直至運動至工件臺極限位；

步驟四：將步驟二和步驟三得到的數據進行最小二乘法進行擬合；

步驟五：設置一閉環自動控制器，其與吊框面型補償單元連接，根據步驟四中擬合得到的數據，在工件臺移動過程中，由所述閉環自動控制器控制所述吊框面型補償單元的補償力。

8.如權利要求7中所述的吊框面型補償方法，其特征在于，在工件臺上設置位置前饋反應裝置，在步驟二和三中記錄工件臺吊框面型形變檢測模塊檢測到的數據的同時，記錄位置前饋反應裝置所顯示的工件臺的實時位置坐標，并將吊框面型形變檢測模塊和位置前饋反應裝置記錄得到的數據形成表格作為閉環自動控制器的前饋信輸入所述閉環自動控制器，在工件臺移動到不同位置時將所述表格中的數據進行插值，并將該插值輸入至所述閉環自動控制器，由閉環自動控制器控制所述吊框面型補償單元的補償力。