[發(fā)明專利]反鐵電類材料在非易失性存儲器件中的應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710112946.0 | 申請日: | 2017-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN107146793B | 公開(公告)日: | 2022-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 烏韋·施勒德爾;米蘭·佩希奇 | 申請(專利權(quán))人: | 納姆實(shí)驗(yàn)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01L27/11507 | 分類號: | H01L27/11507 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 梁麗超;劉彬 |
| 地址: | 德國德*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反鐵電類 材料 非易失性存儲器 中的 應(yīng)用 | ||
本發(fā)明公開了反鐵電類材料在非易失性存儲器件中的應(yīng)用。公開了在電容器或晶體管堆棧中包括箍縮磁滯環(huán)(PHL)材料的集成器件。PHL材料包括場誘導(dǎo)鐵電(FFE)材料、反鐵電(AFE)材料和弛豫型鐵電(RFE)材料。每個(gè)集成器件包括具有設(shè)置在兩個(gè)電極之間的PHL材料層的材料堆棧。該材料的應(yīng)用取決于在堆棧上電場偏置的誘導(dǎo)。根據(jù)一個(gè)選項(xiàng),可以采用具有不同功函數(shù)值的電極來誘導(dǎo)所需的內(nèi)建偏置場并且使得能夠使用PHL材料。根據(jù)另一選項(xiàng),將PHL材料和電荷(例如電荷中間層)設(shè)置在兩個(gè)電極之間,使得出現(xiàn)誘導(dǎo)的內(nèi)建偏置場。采用PHL材料堆棧的集成器件包括存儲器、晶體管以及壓電和熱電器件。
背景技術(shù)
鐵電(FE)材料是表現(xiàn)出自發(fā)電極化的電解質(zhì)晶體。自發(fā)極化的方向可以通過施加外部電場在兩個(gè)晶體定義的狀態(tài)之間反轉(zhuǎn)。兩種明顯不同狀態(tài)的這種材料性質(zhì)可以用于存儲器應(yīng)用以儲存信息,即,兩個(gè)二進(jìn)制狀態(tài)0和1的表示。
僅在居里溫度Tc以下(這在文獻(xiàn)中也被稱為相變溫度),鐵電材料表現(xiàn)出鐵電性。由于相變溫度是材料性質(zhì),它的價(jià)值涵蓋了大范圍的溫度。高于該溫度,該材料表現(xiàn)出順電性質(zhì)和行為。
鐵電鈦酸鋇(BaTiO3)的發(fā)現(xiàn)觸發(fā)了對鐵電材料的研究的增加,因?yàn)閺V泛認(rèn)識到,穩(wěn)健的、化學(xué)穩(wěn)定的和相對惰性的鐵電晶體的存在提供了電可切換的雙態(tài)器件。此類器件的主要優(yōu)點(diǎn)通過其編碼對于二進(jìn)制計(jì)算機(jī)存儲器的布爾代數(shù)所需的1和0狀態(tài)的能力來表示。在鐵電存儲器件中,極化狀態(tài)決定要儲存的信息,其中二進(jìn)制狀態(tài)通過極化的正和負(fù)極化狀態(tài)表示。
鐵電隨機(jī)存取存儲器(FeRAM)的構(gòu)思被用作由其電介質(zhì)是鐵電的一個(gè)晶體管和一個(gè)電容器(1T-1C)配置組成的基本非易失性存儲器單元。這里,與標(biāo)準(zhǔn)DRAM電容器(其中由通過存取晶體管的泄漏電流引起不可避免的放電)相比,F(xiàn)eRAM不隨時(shí)間表現(xiàn)出存儲損耗,因?yàn)樾畔Υ嬖陔x子的永久位置偏移中。在FE層中儲存信息的另一種可能性是在鐵電場效應(yīng)晶體管(FeFET)內(nèi)。這里,F(xiàn)eFET器件中的電介質(zhì)層的極化狀態(tài)改變晶體管的閾值電壓。
隨著摻雜硅的氧化鉿(Si:HfO2)的鐵電性質(zhì)的發(fā)現(xiàn),鐵電場效應(yīng)晶體管(FeFET)以及鐵電隨機(jī)存取存儲器(FRAM)的可集成性和可擴(kuò)展性得到顯著改善。基于PZT的低功率、非易失性存儲器FeFET在1963年由J.L.Moll等人提出。然而,由于與CMOS工藝的兼容性問題、有限的保持和其難以擴(kuò)展性,它們從未達(dá)到大規(guī)模生產(chǎn)。摻雜的氧化鉿中鐵電性質(zhì)的發(fā)現(xiàn)已改變了該情況。在達(dá)到CMOS兼容性和最先進(jìn)的可擴(kuò)展性之后,摻雜鉿的層的可靠性研究顯示出低的耐久性特性。
通常,基于HfO2的鐵電電容器具有高的氧空位含量,導(dǎo)致由器件的早期擊穿引起的更短的耐久性。對于顯示更強(qiáng)的反鐵電(AFE)性質(zhì)的樣品達(dá)到了良好的耐久性。在HfZrO2混合氧化物(HZ)的情況下,混合HZ層中較高的ZrO2含量引起更強(qiáng)的AFE類性質(zhì)。由于耐久性與AFE增加相關(guān),預(yù)期更長的耐久性,這有益于FeCAP(FRAM)壽命性能。
所有現(xiàn)有電子器件的存儲器應(yīng)用由于操作的亞閾值區(qū)域而消耗一定量的能量,這即使在操作的中性狀態(tài)下也需要電力。隨著集成電路器件的數(shù)量在日常生活中上升,提供對于操作所需的消耗功率上的減少的解決方案變得更加重要。
除了具有自發(fā)電極化的FE材料之外,還存在通過施加外部電場而表現(xiàn)出電極化的其它材料。表現(xiàn)出反鐵電性質(zhì)的材料在文獻(xiàn)中被描述為晶體,其結(jié)構(gòu)可以被認(rèn)為由在反平行方向上自發(fā)極化的兩個(gè)亞晶格構(gòu)成,并且其中通過施加電場可以誘導(dǎo)鐵電相。AFE材料的典型示例是PbZrO3。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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