[發(fā)明專利]基板減薄方法及顯示面板減薄方法

在審

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• 申請日: 2017-02-28
• 公開（公告）號: CN106873219A
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發(fā)明（設計）人: 周永山;杜楠楠
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/13
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,劉偉

1.一種基板減薄方法，其特征在于，所述方法包括：

提供待減薄基板；

將所述待減薄基板的待減薄面上的凹點進行保護處理；

對所述待減薄基板的待減薄面進行減薄。

2.根據(jù)權利要求1所述的基板減薄方法，其特征在于，在所述方法中，將所述待減薄基板的待減薄面上的凹點進行保護處理，具體包括：

在所述待減薄基板的待減薄面上的凹點內(nèi)形成保護層。

3.根據(jù)權利要求1所述的基板減薄方法，其特征在于，在所述方法中，對所述待減薄基板的待減薄面進行減薄，具體包括：

采用蝕刻液對所述待減薄基板的待減薄面進行化學減薄。

4.根據(jù)權利要求2所述的基板減薄方法，其特征在于，

所述保護層由在所述待減薄基板的待減薄面上的凹點內(nèi)填補能夠耐受所述蝕刻液腐蝕的保護膠形成。

5.根據(jù)權利要求4所述的基板減薄方法，其特征在于，在所述方法中，所述保護膠將所述待減薄基板的凹點內(nèi)表面全部覆蓋住。

6.根據(jù)權利要求4所述的基板減薄方法，其特征在于，在所述方法中，通過點膠的方式在所述凹點內(nèi)填補所述保護膠，以形成所述保護層。

7.根據(jù)權利要求4所述的基板減薄方法，其特征在于，

所述蝕刻液包括氫氟酸；所述保護層采用耐氫氟酸腐蝕的保護膠形成。

8.根據(jù)權利要求3所述的基板減薄方法，其特征在于，所述方法還包括：在對所述待減薄基板的待減薄面進行減薄之后，對厚度減薄后的基板進行沖洗，過濾蝕刻液。

9.根據(jù)權利要求1所述的基板減薄方法，其特征在于，所述方法還包括：在對所述待減薄基板的待減薄面進行減薄之前，對所述待減薄基板的四周進行封膠保護。

10.一種顯示面板減薄方法，所述顯示面板包括對盒的兩塊襯底基板，其特征在于，采用如權利要求1至9任一項所述的方法對所述顯示面板中的每一襯底基板進行減薄，其中，每一襯底基板的待減薄面為背向另一襯底基板的表面。