[發(fā)明專利]利用金屬部件和金屬蒙皮層的鑄造在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710112156.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-02-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107130237A | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R.S.班克;D.G.科尼策爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號(hào): | C23C24/10 | 分類號(hào): | C23C24/10;B22C9/22 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 金飛,譚祐祥 |
| 地址: | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 金屬 部件 蒙皮 鑄造 | ||
1.一種鑄造模,包括:
鑄造型芯(200),其包括第一金屬部件(202)和包圍所述第一金屬部件的至少一部分的第二金屬蒙皮層(204),所述第二金屬蒙皮層具有比第一金屬更高的熔點(diǎn),
其中,所述第一金屬部件構(gòu)造成使得在去除時(shí),形成可用第三金屬(212)填充的型腔(210)。
2.如權(quán)利要求1所述的鑄造模,其特征在于,所述第二金屬蒙皮層包括難熔金屬。
3.如權(quán)利要求1或2的任一項(xiàng)所述的鑄造模,其特征在于,所述第二金屬蒙皮層具有不超過(guò)2毫米的厚度。
4.如權(quán)利要求1-3的任一項(xiàng)所述的鑄造模,其特征在于,所述第一金屬部件包括鋁、鋁合金、鎳、鎳合金、銅、銅合金、金、金合金、銀或銀合金的至少其中一種。
5.如權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)所述的鑄造模,其特征在于,所述第二金屬蒙皮層包括允許接近所述第一金屬部件的兩個(gè)或更多開(kāi)口。
6.如權(quán)利要求1-5的任一項(xiàng)所述的鑄造模,其特征在于,還包括:
包圍所述第一金屬部件或所述第二金屬蒙皮層的一個(gè)或更多的至少一部分的外型殼模(208),
其中所述外型殼模包括陶瓷。
7.一種生產(chǎn)鑄造部件的方法,包括:
鑄造型芯(200),其包括第一金屬部件(202)和包圍所述第一金屬部件的至少一部分的第二金屬蒙皮層(204),所述第二金屬蒙皮層具有比第一金屬更高的熔點(diǎn),
(a)去除所述第一金屬部件以在所述第二金屬蒙皮層的至少一部分內(nèi)形成型腔(210);以及
(b)添加第三金屬(212)以填充第二金屬蒙皮層內(nèi)的所述型腔的至少一部分。
8.如權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,還包括從所述鑄造部件去除第二金屬蒙皮層。
9.如權(quán)利要求7或8的任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述第二金屬蒙皮層是3維的。
10.如權(quán)利要求7-9的任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述第一金屬部件包括具有比所述第二金屬蒙皮層更低的熔點(diǎn)的金屬。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C24-00 自無(wú)機(jī)粉末起始的鍍覆
C23C24-02 .僅使用壓力的
C23C24-08 .加熱法或加壓加熱法的
C23C24-10 ..覆層中臨時(shí)形成液相的
C23C24-04 ..顆粒的沖擊或動(dòng)力沉積
C23C24-06 ..粉末狀覆層材料的壓制,例如軋制





