[發明專利]一種紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法有效
| 申請號： | 201710111368.9 | 申請日： | 2017-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN107057093B | 公開（公告）日： | 2019-07-05 |
| 發明（設計）人： | 魯從華;汪娟娟 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C08J3/24 | 分類號： | C08J3/24;C08J5/18;C08J7/00;C08L83/04;C08L67/04;C08L33/08;C08L75/04 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人： | 李麗萍 |
| 地址： | 300072*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紫外 光照 消除 降解 高分子 薄膜 表面 皺紋 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種紫外光照消除可降解高分子薄膜表面皺紋的方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟一、將PDMS預聚體和交聯劑按質量比為10:1混合后，充分攪拌形成均勻的預聚合物，將上述預聚合物在真空泵中脫氣后澆筑到表面皿中，70℃下加熱4h進行熱交聯固化，得到PDMS彈性體；
步驟二、將步驟一得到的PDMS彈性體進行氧等離子體表面活化處理，然后旋涂溶有0.5-5％質量分數可降解高分子的有機溶劑溶液，其中，可降解高分子是聚乳酸或是聚甲基丙烯酸甲酯，真空泵中脫氣除去殘余的有機溶劑，得到軟硬復合體系；
步驟三、對步驟二得到的軟硬復合體系施加0.02-0.3MPa的壓縮應力使其表面產生皺紋形貌，
步驟四、對步驟三得到的表面起皺的軟硬復合體系進行紫外光照，光照劑量為9-60 Jcm-2，從而消除軟硬復合體系的表面皺紋圖案。
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