[發(fā)明專利]微痕量熒光探測儀有效值補償方法及系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710109577.X
• 申請日: 2017-02-27
• 公開（公告）號: CN107101980B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉秦豫;吳哲;張?zhí)扃?/a>;王先松
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳礪劍防衛(wèi)技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 深圳市科進知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 趙勍毅

1.一種微痕量熒光探測儀有效值補償方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：

a.采集獲得膜片熒光值的原始數(shù)據(jù)A，所述原始數(shù)據(jù)A包括：A₁,A₂,A₃,……A_n-1,A_n,A_n+1；

b.對上述原始數(shù)據(jù)進行平滑濾波：W_n＝(A_n-j,+A_n-j+1,+A_n,+A_n+j-1,+A_n+j)/(2j-1)，得到數(shù)據(jù)W₁,W₂,W₃,……W_n-1,W_n,W_n+1，其中j為常量；

c.根據(jù)上述平滑濾波后的數(shù)據(jù)，計算得到檢測峰值；

d.對上述檢測峰值進行修正，以對熒光材料檢測有效值進行補償；

所述的步驟c具體包括：

利用微分方法求取檢測峰值H_i＝W_i-n-W_i，得到數(shù)據(jù)H₁,H₂,H₃,……H_n-1,H_n,H_n+1；

所述的步驟d具體包括：

采用公式：Jn＝(Q/Wn)^b*Hn對上述檢測峰值進行修正，其中，Q與采樣數(shù)據(jù)的最大值有關(guān)，b與膜片靈敏度和熒光衰減有關(guān)。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述的步驟a具體包括：

利用模數(shù)轉(zhuǎn)換器采集獲得膜片熒光值的原始數(shù)據(jù)A。

3.一種微痕量熒光探測儀有效值補償系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)包括采集模塊、濾波模塊、計算模塊及補償模塊，其中：

所述采集模塊用于采集獲得膜片熒光值的原始數(shù)據(jù)A，所述原始數(shù)據(jù)A包括：A₁,A₂,A₃,……A_n-1,A_n,A_n+1；

所述濾波模塊用于對上述原始數(shù)據(jù)進行平滑濾波：W_n＝(A_n-j,+A_n-j+1,+A_n,+A_n+j-1,+A_n+j)/(2j-1)，得到數(shù)據(jù)W₁,W₂,W₃,……W_n-1,W_n,W_n+1，其中j為常量；

所述計算模塊用于根據(jù)上述平滑濾波后的數(shù)據(jù)，計算得到檢測峰值；

所述補償模塊用于對上述檢測峰值進行修正，以對熒光材料檢測有效值進行補償；

所述的計算模塊具體用于：

利用微分方法求取檢測峰值H_i＝W_i-n-W_i，得到數(shù)據(jù)H₁,H₂,H₃,……H_n-1,H_n,H_n+1；

所述的補償模塊具體用于：

采用公式：Jn＝(Q/Wn)^b*Hn對上述檢測峰值進行修正，其中，Q與采樣數(shù)據(jù)的最大值有關(guān)，b與膜片靈敏度和熒光衰減有關(guān)。

4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述的采集模塊具體用于：

利用模數(shù)轉(zhuǎn)換器采集獲得膜片熒光值的原始數(shù)據(jù)A。