[發明專利]觸控電極結構及其制作方法

有效

• 申請號: 201710109095.4
• 申請日: 2017-02-27
• 公開（公告）號: CN106775132B
• 公開（公告）日: 2019-10-18
• 發明（設計）人: 趙德江;董立文
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;H01B1/02
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 姜怡;王衛忠

1.一種觸控電極結構的制作方法，包括：

在納米銀墨水中制作誘導柱，所述誘導柱為兩兩一組的雙誘導柱陣列結構，其中所述制作兩兩一組的雙誘導柱陣列結構包括使得將一組之內的兩個誘導柱制作成結構相同，并且每個所述誘導柱包括在其高度方向上從下至上的第一結構和第二結構，所述第二結構的高度和橫截面積大于所述第一結構的高度和橫截面積；

將包含所述誘導柱的納米銀墨水橫向打印在基板上形成橫向電極；

在所述橫向電極上打印形成介電層；

將包含所述誘導柱的納米銀墨水縱向打印在所述介電層和所述橫向電極上形成縱向電極。

2.一種觸控電極結構的制作方法，包括：

在基板上制作誘導柱，所述誘導柱為兩兩一組的雙誘導柱陣列結構，其中所述制作兩兩一組的雙誘導柱陣列結構包括使得將一組之內的兩個誘導柱制作成結構相同，并且每個所述誘導柱包括在其高度方向上從下至上的第一結構和第二結構，所述第二結構的高度和橫截面積大于所述第一結構的高度和橫截面積；

將納米銀墨水橫向打印在基板上，所述納米銀墨水由所述誘導柱誘導形成橫向電極；

在所述橫向電極上打印形成介電層；

將所述納米銀墨水縱向打印在所述介電層和所述橫向電極上，所述納米銀墨水由所述誘導柱誘導形成縱向電極。

3.如權利要求1或2所述的觸控電極結構的制作方法，其中所述制作兩兩一組的雙誘導柱陣列結構包括將一組之內的兩個誘導柱之間的距離制作成在5-10μm之間。

4.如權利要求1或2所述的觸控電極結構的制作方法，其中所述制作兩兩一組的雙誘導柱陣列結構包括將一組之內的兩個誘導柱之間的距離制作成不大于所述納米銀墨水的墨滴直徑的兩倍。

5.如權利要求1或2所述的觸控電極結構的制作方法，所述第一結構為親水結構并且所述第二結構為疏水結構，或者所述第一結構為疏水結構并且所述第二結構為親水結構。

6.如權利要求1或2所述的觸控電極結構的制作方法，包括打印所述橫向電極、所述介電層和所述縱向電極之后一并進行干燥。

7.如權利要求1或2所述的觸控電極結構的制作方法，所述在所述橫向電極上打印形成介電層包括在所述橫向電極上打印形成界面性質與打印形成所述橫向電極的納米銀墨水相匹配的介電層，并且在打印形成所述橫向電極的納米銀墨水中的雙誘導柱處打印以形成介電層。

8.一種觸控電極結構，包括：

基板；

橫向電極，形成在所述基板之上，所述橫向電極是由納米銀墨水在誘導柱的作用下而形成，所述誘導柱包括兩兩一組的雙誘導柱陣列結構，其中所述雙誘導柱陣列結構中一組之內的兩個誘導柱的結構相同，并且每個所述誘導柱包括在其高度方向上從下至上的第一結構和第二結構，所述第二結構的高度和橫截面積大于所述第一結構的高度和橫截面積；

介電層，形成在所述橫向電極之上，并且所述介電層由與所述納米銀墨水的界面性質相同的材料形成；

縱向電極，形成在所述介電層和所述橫向電極之上，所述縱向電極由與形成所述橫向電極的納米銀墨水相同的納米銀墨水在所述誘導柱的作用下而形成。

9.如權利要求8所述的觸控電極結構，其中所述雙誘導柱陣列結構中一組之內的兩個誘導柱之間的距離在5-10μm之間。

10.如權利要求8所述的觸控電極結構，所述第一結構為親水結構并且所述第二結構為疏水結構，或者所述第一結構為疏水結構并且所述第二結構為親水結構。