[發(fā)明專利]圖案修整組合物和方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710107087.6
• 申請(qǐng)日: 2017-02-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107168014B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: K·羅威爾;劉驄;徐成柏;I·考爾;樸鐘根
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/16
• 分類號(hào): G03F7/16
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒;胡嘉倩

1.一種光致抗蝕劑圖案修整組合物，其包含：

可溶于0.26當(dāng)量濃度氫氧化四甲基銨水溶液中的聚合物，所述聚合物不含酸基團(tuán)；

非聚合酸；和

溶劑系統(tǒng)，其中所述溶劑系統(tǒng)包含以所述溶劑系統(tǒng)計(jì)組合量為70到98重量％的一種或多種單醚溶劑以及以所述溶劑系統(tǒng)計(jì)組合量為2到30重量％的一種或多種醇和/或酯溶劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述溶劑系統(tǒng)包含C4-C8一元醇和/或總碳數(shù)為4到10的烷基酯。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述一種或多種單醚溶劑包含總碳數(shù)為6到16的烷基單醚和/或芳香族單醚。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述溶劑系統(tǒng)包含：二異戊醚或苯甲醚；和4-甲基-2-戊醇。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述聚合物包含包含-C(CF3)₂OH基團(tuán)的重復(fù)單元。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述聚合物包含由乙烯基芳香族單體形成的重復(fù)單元。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述聚合物包含由任選經(jīng)取代的(甲基)丙烯酸烷基酯單體形成的重復(fù)單元。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述溶劑系統(tǒng)包括一種或多種醇溶劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑圖案修整組合物，其中所述溶劑系統(tǒng)包括一種或多種酯溶劑。