[發(fā)明專利]一種新型真空滅弧室結構

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710105537.8
• 申請日: 2017-02-27
• 公開（公告）號: CN106601545A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發(fā)明（設計）人: 董恩源;潘朝陽;王永興;朱玉
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/666
• 代理公司: 大連理工大學專利中心21200
• 代理人: 梅洪玉

1.一種新型真空滅弧室結構，其特征在于，包括真空泡和雙斥力盤，其中，雙斥力盤包括斥力線圈盤和斥力銅盤，兩盤平行相對放置；真空泡的下端部作為斥力銅盤，用于感應產生渦流；真空泡中的動觸頭和雙斥力盤中的斥力線圈盤通過導電桿連接，為受力運動部件，兩者構成一體式運動；斥力線圈盤中的勵磁電流分別從其上端的導電桿流入，從其下端的導電桿流出，進而雙斥力盤之間產生電動斥力實現分閘操作。

2.根據權利要求1所述的一種新型真空滅弧室結構，其特征在于，斥力線圈盤與斥力銅盤之間以及雙斥力盤與導電桿之間都由絕緣材料隔離，防止短路。

3.根據權利要求1或2所述的一種新型真空滅弧室結構，其特征在于，斥力線圈的電流導入端利用滑動觸指與斥力線圈盤上端的導電桿接觸，斥力線圈的電流導出端利用軟連接與斥力線圈盤下端的導電桿相接；斥力線圈盤的上、下端導電桿之間設有絕緣體，作用是使斥力線圈盤中的勵磁電流分別從其上端的導電桿流入，從其下端的導電桿流出。

4.根據權利要求1或2所述的一種新型真空滅弧室結構，其特征在于，斥力線圈盤下端的導電桿下部設有絕緣支柱，合閘操動及保持機構位于絕緣支柱下方，用于進行合閘操作和合閘位的保持。

5.根據權利要求3所述的一種新型真空滅弧室結構，其特征在于，斥力線圈盤下端的導電桿下部設有絕緣支柱，合閘操動及保持機構位于絕緣支柱下方，用于進行合閘操作和合閘位的保持。