[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710103949.8 | 申請日: | 2017-02-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107134477B | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳重輝;詹豪杰;陳威志 | 申請(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L23/64;H01L29/78 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括:
多個(gè)有源區(qū),彼此間隔設(shè)置;
多個(gè)柵極,橫越在所述有源區(qū)上方;
多個(gè)導(dǎo)體,設(shè)置在所述有源區(qū)上方并且設(shè)置在所述有源區(qū)之間;
其中,設(shè)置在所述有源區(qū)之間的導(dǎo)體中的每一個(gè)都布置在鄰近的兩個(gè)所述柵極之間、并且具有與所述柵極中的至少一個(gè)對應(yīng)的柵極重疊的部分以形成至少一個(gè)電容器,
其中,在所述多個(gè)導(dǎo)體中,設(shè)置在所述有源區(qū)之間的所述導(dǎo)體不設(shè)置在所述有源區(qū)上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵極彼此間隔設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵極和所述導(dǎo)體形成串聯(lián)、并聯(lián)或串聯(lián)和并聯(lián)組合連接的電容器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述導(dǎo)體彼此間隔設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述柵極和所述導(dǎo)體形成串聯(lián)、并聯(lián)或串聯(lián)和并聯(lián)組合連接的電容器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述電容器的電容值正比于所述柵極中的一個(gè)和所述導(dǎo)體中的一個(gè)的重疊部分的面積。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述電容器的電容值反比于所述柵極中的一個(gè)和所述導(dǎo)體中的一個(gè)之間的間隙。
8.一種半導(dǎo)體器件,包括:
多個(gè)有源區(qū);
至少一個(gè)柵極,橫越在所述有源區(qū)上方以形成晶體管,其中,所述至少一個(gè)柵極包括位于所述有源區(qū)之間而不位于所述有源區(qū)上方的開口;以及
第一導(dǎo)體,設(shè)置在所述開口內(nèi);
其中,所述第一導(dǎo)體和所述至少一個(gè)柵極至少部分重疊以形成第一電容器。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述第一導(dǎo)體和所述至少一個(gè)柵極的兩個(gè)相對側(cè)至少部分重疊。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述至少一個(gè)柵極由多晶硅、金屬或合金形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,還包括:
第二導(dǎo)體,其中,所述第二導(dǎo)體和所述至少一個(gè)柵極至少部分重疊以形成第二電容器。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述第一導(dǎo)體和所述第二導(dǎo)體彼此間隔設(shè)置。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體器件,其中,通過所述至少一個(gè)柵極的兩個(gè)相對側(cè)和所述第一導(dǎo)體形成所述第一電容器,并且通過所述至少一個(gè)柵極的兩個(gè)相對側(cè)中的一個(gè)和所述第二導(dǎo)體形成所述第二電容器。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述第一電容器和所述第二電容器串聯(lián)、并聯(lián)或串聯(lián)和并聯(lián)組合連接。
15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體器件,其中,所述第一電容器的電容值正比于所述至少一個(gè)柵極和所述第一導(dǎo)體的重疊部分的面積。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





