[發明專利]一種等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法有效
| 申請號： | 201710103134.X | 申請日： | 2017-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN106946295B | 公開（公告）日： | 2018-11-02 |
| 發明（設計）人： | 曾美琴;宋凱強;朱敏;魯忠臣;胡仁宗;陳可 | 申請（專利權）人： | 華南理工大學 |
| 主分類號： | C01G49/16 | 分類號： | C01G49/16 |
| 代理公司： | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人： | 陳文姬 |
| 地址： | 510640 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 輔助 磨制 片狀 羰基 鐵粉 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)將平均粒度為5～200μm的羰基鐵粉在惰性氣體保護下采用等離子體輔助球磨機進行干磨，得到粒度小于100μm的多層次片狀羰基鐵粉；
步驟(1)所述采用等離子體輔助球磨機進行干磨，具體為：
球磨時間為3～15h，工作電流1～2A，激發電壓10～20kV；
(2)通過行星式球磨對步驟(1)得到的多層次片狀羰基鐵粉進行干磨，得到平均粒度為2～50μm的二次片狀羰基鐵粉。
2.根據權利要求1所述的等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法，其特征在于，步驟(1)所述采用等離子體輔助球磨機進行干磨，其中球磨介質為碳化鎢球，球料比為10：1～50：1。
3.根據權利要求1所述的等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法，其特征在于，步驟(1)所述惰性氣體為氬氣。
4.根據權利要求1所述的等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法，其特征在于，步驟(2)所述通過行星式球磨對步驟(1)得到的多層次片狀羰基鐵粉進行干磨，具體為：
球磨轉速為250rpm～400rpm，球磨時間為2h～10h。
5.根據權利要求1所述的等離子體輔助球磨制備片狀羰基鐵粉的方法，其特征在于，步驟(2)所述通過行星式球磨對步驟(1)得到的多層次片狀羰基鐵粉進行干磨，其中，球磨介質為不銹鋼球，球料比為10：1～20：1。
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