[發明專利]一種14吋砷化鎵單晶爐及其拉1?13根單晶生長方法在審
| 申請號: | 201710102779.1 | 申請日: | 2017-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN106757307A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發明(設計)人: | 易德福;守建川 | 申請(專利權)人: | 江西德義半導體科技有限公司 |
| 主分類號: | C30B11/00 | 分類號: | C30B11/00;C30B29/42 |
| 代理公司: | 蘇州國誠專利代理有限公司32293 | 代理人: | 韓鳳 |
| 地址: | 344000 江西省撫*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 14 吋砷化鎵單晶爐 及其 13 根單晶 生長 方法 | ||
1.一種14吋砷化鎵單晶爐,其特征在于:包括14吋爐膛、2吋PBN組件、保溫棉、爐芯、石英管、環形加熱片、封蓋;
所述14吋爐膛呈圓筒狀,所述14吋爐膛內沿其高度方向分為3-10段溫場,所述3-10段溫場的區域內設有多個溫控點,所述石英管設置在14吋爐膛內的底部,所述爐芯設置在石英管內,所述石英管與爐芯之間設有保溫棉,所述環形加熱片固定在14吋爐膛的內壁上,并且環形加熱片靠近石英管的一面呈鋸齒狀,所述2吋PBN組件整體呈圓柱狀,其底部呈漏斗狀,安裝在石英支撐內部,所述封蓋設置在14吋爐膛的頂部開口處。
2.根據權利要求1所述的14吋砷化鎵單晶爐,其特征在于:溫控點的數量為21-35個,3-10段溫場的上段區域內均勻分布有3-10個溫控點,3-10溫場的中段區域內均勻分布有15個溫控點,3-10段溫場的下段區域內均勻分布有3-10個溫控點。
3.根據權利要求1所述的14吋砷化鎵單晶爐,其特征在于:所述2吋PBN組件的數量為13個,以3-2-3-2-3的任意排列方式均勻排列。
4.根據權利要求1-3任一項所述的14吋砷化鎵單晶爐拉1-13根單晶的方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1用1.5小時加熱升溫到3-10段溫場的上段區域1150-1200℃、中段區域1280-1350℃、下段區域1220-1260℃,然后保溫1.5小時;
(2)將砷化鎵多晶、籽晶裝入2吋PBN組件中,再放在石英管內抽真空,當真空度為6.5×10-3Pa后,通過氫氧焰對石英管進行封焊,然后將石英管放入14吋爐膛內;
(3)通過溫控點控制3-10段溫場內的生長溫度,加熱升溫到3-10段溫場的下段區域1200℃、5-6段溫場的中段區域1300℃、3-4段溫場的下段區域1240℃,保溫1.5小時,使原料熔融,然后保持3-10段溫場的上、中段區域溫度不變,3-10段溫場的下段區域穩定降低為1180℃,降溫時間為24小時,使晶體肩部穩定生長,然后勻速降低溫度,使3-10段溫場的下段區域1160℃、3-10段溫場的中段區域1280℃、3-10段溫場的下段區域1220℃,降溫時間為12小時,使晶體等徑部分穩定生長;
(4)當砷化鎵晶體結晶結束后,爐內溫度降低至1150℃,保溫12h,然后以25℃/小時將至室溫,晶體生長完畢,得到1-13根砷化鎵單晶。
5.根據權利要求4所述的方法步驟制備的砷化鎵單晶的長度為120-350mm。
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