[發(fā)明專利]定影裝置用加熱器以及定影裝置用加熱器的形成方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710101766.2
• 申請日: 2017-02-24
• 公開（公告）號: CN107203115A
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不藤平四郎;和宇慶知子;鈴木健太;寺尾博年;岡田英二;中島進;本田和廣
• 申請（專利權(quán)）人: 阿爾卑斯電氣株式會社
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002
• 代理人: 陳建全

1.一種定影裝置用加熱器，其特征在于，其具有：

基板；

發(fā)熱元件，該發(fā)熱元件形成在所述基板上；

多個電極圖案，該多個電極圖案形成在所述基板上，并且與所述發(fā)熱元件連接；以及

至少一層保護層，該至少一層保護層形成在所述發(fā)熱元件上和所述電極圖案上，

其中，所述至少一層保護層之中的最上層至少具有在玻璃中分散比所述玻璃容易發(fā)生脆性斷裂的填料而得到的構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，第一保護層形成在所述發(fā)熱元件上和所述電極圖案上，

第二保護層形成在所述第一保護層上，

所述第二保護層具有在所述玻璃中分散所述填料而得到的構(gòu)成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述第二保護層為多孔質(zhì)狀態(tài)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述填料的線膨脹系數(shù)比所述玻璃的線膨脹系數(shù)小。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述填料為氮化硼。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述第二保護層中的所述氮化硼的添加率是氮化硼相對于所述玻璃與氮化硼的總量的重量比例為3～25重量％。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述第二保護層的厚度為5～28μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述發(fā)熱元件形成在所述基板的一部分上。

9.根據(jù)權(quán)利要求4～8中任一項所述的定影裝置用加熱器，其特征在于，所述基板為玻璃基板。

10.一種定影裝置用加熱器的形成方法，其特征在于，其包括下述工序：

在基板上形成發(fā)熱元件和多個電極圖案的圖案形成工序；

制造至少含有玻璃和比所述玻璃容易發(fā)生脆性斷裂的填料的油墨的油墨制造工序；以及

在由所述圖案形成工序形成的所述發(fā)熱元件和所述多個電極圖案上形成至少一層保護層的工序，

其中，所述至少一層保護層之中的最上層是通過使用由所述油墨制造工序制得的油墨進行印刷、燒制而形成的。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的定影裝置用加熱器的形成方法，其特征在于，向所述油墨添加了表面改性劑。