[發(fā)明專利]一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)及成型方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710101738.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-02-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106653977B | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭劍飛;林志洪;鄭文財(cái);高春瑞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門多彩光電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/48 | 分類號(hào): | H01L33/48;H01L33/62 |
| 代理公司: | 廈門市精誠(chéng)新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人: | 張偉星 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市火*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 倒裝 芯片 封裝 結(jié)構(gòu) 成型 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)及成型方法,一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu),包括支架本體、倒裝芯片以及封裝膠體,支架本體的碗杯內(nèi)還設(shè)有對(duì)應(yīng)金屬電極數(shù)量的緩沖層,所述緩沖層均由金屬材料制成,所述緩沖層之間通過(guò)絕緣河道進(jìn)行分割和電性隔離,所述緩沖層的上表面設(shè)置有第一可焊接金屬層以對(duì)應(yīng)連接倒裝芯片的電極,所述緩沖層的下表面設(shè)有第二可焊金屬層以對(duì)應(yīng)連接支架本體上的金屬電極,該倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)通過(guò)在倒裝芯片和封裝支架之間插入緩沖層的方式,解決了倒裝芯片在回流焊時(shí)因膨脹系數(shù)差異大造成焊接質(zhì)量不好的問(wèn)題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種倒裝芯片的封裝結(jié)構(gòu)及成型方法。
背景技術(shù)
倒裝芯片與正裝芯片相比,它具有較好的散熱功能,具有低電壓、高亮度、高可靠性、高飽和電流密度等優(yōu)點(diǎn),因此倒裝芯片在大功率LED器件上有著廣泛的應(yīng)用。
對(duì)于現(xiàn)有的貼片式倒裝LED封裝結(jié)構(gòu)常是在支架固晶區(qū)點(diǎn)錫膏,然后將倒裝芯片貼放在錫膏上,芯片電極與錫膏對(duì)應(yīng),經(jīng)過(guò)回流焊,實(shí)現(xiàn)固晶。但是由于金屬支架和塑膠料的膨脹系數(shù)不同 ,在過(guò)回流焊固晶的時(shí)候,金屬支架會(huì)存在彎曲的情況,使得金屬支架變得不平整,因此錫膏無(wú)法均勻的分布在芯片電極和金屬支架之間,使得芯片電極和金屬支架之間會(huì)存在空洞,甚至存在沒(méi)有焊接在一起存在虛焊的問(wèn)題,這直接影響了芯片的散熱和穩(wěn)定性。為了解決這個(gè)問(wèn)題,有人提出增加錫膏的量,但是由于支架的兩個(gè)電極之間的絕緣層間距比較小,而且倒裝芯片的兩個(gè)電極的之間的間隙也比較小,會(huì)存在點(diǎn)在支架兩個(gè)電極上的錫膏跨過(guò)絕緣層連接在一起,造成短路。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)及成型方法,該倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)通過(guò)在倒裝芯片和封裝支架之間插入緩沖層的方式,以解決現(xiàn)有倒裝芯片在回流焊時(shí)因膨脹系數(shù)差異大造成焊接質(zhì)量不好的問(wèn)題。
具體方案如下:
一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu),包括支架本體、倒裝芯片以及封裝膠體,所述支架本體包括至少兩個(gè)金屬電極以及絕緣材料,所述倒裝芯片固定在支架本體的碗杯內(nèi),所述封裝膠體涂覆在倒裝芯片上,所述支架本體的碗杯內(nèi)還設(shè)有對(duì)應(yīng)金屬電極數(shù)量的緩沖層,所述緩沖層均由金屬材料制成,所述緩沖層之間通過(guò)絕緣河道進(jìn)行分割和電性隔離,所述緩沖層的上表面設(shè)置有第一可焊接金屬層以對(duì)應(yīng)連接倒裝芯片的電極,所述緩沖層的下表面設(shè)有第二可焊金屬層以對(duì)應(yīng)連接支架本體上的金屬電極。
優(yōu)選的,所述支架本體的金屬電極與緩沖層相焊接的面上設(shè)有第三可焊金屬層,所述緩沖層和金屬電極之間通過(guò)第二可焊金屬層和第三可焊金屬層直接焊接固定。
優(yōu)選的,所述第二可焊金屬層和第三可焊金屬層均為錫或者錫合金。
優(yōu)選的,所述第二可焊金屬層的厚度為100-200um,所述第三可焊金屬層的厚度為150-250um。
優(yōu)選的,所述緩沖層的上表面包括焊盤區(qū)和反射區(qū),所述焊盤區(qū)位于緩沖層的對(duì)應(yīng)固定倒裝芯片的位置,所述反射區(qū)位于其他位置,所述反射區(qū)上設(shè)有反射層。
優(yōu)選的,所述絕緣河道內(nèi)填充有絕緣材料,所述絕緣材料為有機(jī)硅膠絕緣材料。
優(yōu)選的,所述絕緣材料的頂面超過(guò)緩沖層的上表面20-30um。
優(yōu)選的,所述絕緣河道的寬度為180-220um。
本發(fā)明還提供了一種倒裝芯片封裝結(jié)構(gòu)的成型方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1、將上述的緩沖層放入到支架本體的碗杯內(nèi),并且使各緩沖層分別與支架本體的各金屬電極相對(duì)應(yīng),使其不會(huì)短路;
S2、在緩沖層的正負(fù)電極上點(diǎn)錫膏;
S3、將倒裝芯片放置在緩沖層上,并且倒裝芯片的電極分別與緩沖層對(duì)應(yīng);
S4、過(guò)回流焊,使得倒裝芯片通過(guò)錫膏焊接在緩沖層上,緩沖層焊接在支架本體的金屬電極上;
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